[實(shí)用新型]一種圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022254148.1 | 申請日: | 2020-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN212342619U | 公開(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭洪巖;胡正勛;趙強(qiáng);夏劍;張朝云 | 申請(專利權(quán))人: | 長電集成電路(紹興)有限公司 |
| 主分類號: | H01L25/07 | 分類號: | H01L25/07;H01L25/00;H01L23/31;H01L23/498 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 趙華 |
| 地址: | 312000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圓片級 芯片 三維 堆疊 封裝 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,其包括下部封裝體、再布線層(150)和上部封裝體,所述上部封裝體堆疊設(shè)置在下部封裝體的上方,并通過再布線層(150)實(shí)現(xiàn)電信連接;
所述下部封裝體包含高密度再布線扇出層(102)、若干個芯片Ⅰ(110)、若干個金屬核心焊球(120)、塑封料Ⅰ(140)、凸點(diǎn)下金屬(300)和球柵陣列焊球(301),所述金屬核心焊球(120)的中心為高熔點(diǎn)金屬球,外面包覆有焊錫料;所述高密度再布線扇出層(102)包含復(fù)數(shù)層選擇性隔離的絕緣層和金屬布線層,所述芯片Ⅰ(110)采用倒裝方式連接到高密度再布線扇出層(102)的上表面,所述高密度再布線扇出層(102)的下表面設(shè)置球柵陣列焊球(301);所述金屬核心焊球(120)設(shè)置于芯片Ⅰ(110)周圍,并與高密度再布線扇出層(102)的上表面連接,且其高度大于芯片Ⅰ(110)的高度;所述塑封料Ⅰ(140)于高密度再布線扇出層(102)上方塑封芯片Ⅰ(110)、金屬核心焊球(120),所述金屬核心焊球(120)部分露出塑封料Ⅰ(140)的上表面;
所述再布線層(150)設(shè)置于上部封裝體與下部封裝體之間,所述上部封裝體包括若干個芯片Ⅱ(200)和/或被動元件Ⅱ、焊球(201)、塑封料Ⅱ(220)和底部填充料Ⅱ(210),所述芯片Ⅱ(200)通過焊球(201)與再布線層(150)連接,所述底部填充料Ⅱ(210)填充芯片Ⅱ(200)的底部空間,所述塑封料Ⅱ(220)于再布線層(150)的上方塑封芯片Ⅱ(200)和/或被動元件Ⅱ;
所述上部封裝體的芯片Ⅱ(200)和/或被動元件Ⅱ依次通過焊球(201)、再布線層(150)、下部封裝體的金屬核心焊球(120)和高密度再布線扇出層(102)與下部封裝體的芯片Ⅰ(110)實(shí)現(xiàn)電信連接。
2.如權(quán)利要求1所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述上部封裝體的尺寸大于下部封裝體的尺寸,所述塑封料Ⅰ(140)于高密度再布線扇出層(102)上方留出高密度再布線扇出層(102)的邊緣不塑封,所述上部封裝體的塑封料Ⅱ(220)于再布線層(150)的上方塑封芯片Ⅱ(200)和/或被動元件Ⅱ,并下沿塑封至高密度再布線扇出層(102)的邊緣。
3.如權(quán)利要求1或2所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述高密度再布線扇出層(102)的線寬/線距小于8um/8um。
4.如權(quán)利要求3所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述高密度再布線扇出層(102)的線寬/線距為1.5um/1.5um。
5.如權(quán)利要求1或2所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述塑封料Ⅰ(140)還塑封被動元件Ⅰ(160),所述被動元件Ⅰ(160)設(shè)置于高密度再布線扇出層(102)的正面,其高度小于金屬核心焊球(120)的高度。
6.如權(quán)利要求1或2所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述再布線層(150)由下而上依次包括絕緣層Ⅰ(151)、金屬布線層(152)、絕緣層Ⅱ(153)和焊盤(154),所述金屬布線層(152)下通過絕緣層Ⅰ開口與金屬核心焊球(120)連通,上通過絕緣層Ⅱ開口設(shè)置焊盤(154),所述焊盤(154)上設(shè)置焊球(201)。
7.如權(quán)利要求1或2所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括銅柱凸塊(111)和芯片底部填充料Ⅰ(130),所述銅柱凸塊(111)設(shè)置于芯片Ⅰ(110)底部,所述芯片Ⅰ(110)通過芯片Ⅰ(110)底部的銅柱凸塊(111)上的焊錫帽(112)與高密度再布線扇出層(102)上的焊盤連接,所述芯片底部填充料Ⅰ(130)填充芯片Ⅰ(110)的底部。
8.如權(quán)利要求1或2所述的圓片級芯片扇出三維堆疊封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述高密度再布線扇出層(102)的背面設(shè)置凸點(diǎn)下金屬(300),通過所述凸點(diǎn)下金屬(300)設(shè)置球柵陣列焊球(301)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L25-00 由多個單個半導(dǎo)體或其他固態(tài)器件組成的組裝件
H01L25-03 .所有包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中同一小組內(nèi)的相同類型的器件,例如整流二極管的組裝件
H01L25-16 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個或多個不同大組內(nèi)的類型的器件,例如構(gòu)成混合電路的
H01L25-18 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個或多個同一大組的不同小組內(nèi)的類型的器件
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