[實用新型]一種厚膜加熱電器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022246087.4
• 申請日: 2020-10-10
• 公開（公告）號: CN214230909U
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設計）人: 胡旭
• 申請（專利權）人: 深圳瑞森特電子科技有限公司
• 主分類號: A47J27/21
• 分類號: A47J27/21
• 代理公司: 深圳市嘉勤知識產(chǎn)權代理有限公司 44651
• 代理人: 王敏生

1.一種厚膜加熱電器，其特征在于，所述厚膜加熱電器包括：

壺體，包括壺壁和壺底，所述壺底背向壺壁的一側(cè)設有凹槽；

厚膜加熱組件，包括底基材和設置于所述底基材上的加熱厚膜，其中，所述底基材可放置并固定于所述凹槽內(nèi)。

2.根據(jù)權利要求1所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述底基材的外平面低于或平齊于所述凹槽的開口平面。

3.根據(jù)權利要求1所述的厚膜加熱電器，其特征在于，具有所述凹槽的壺底為沖壓成型結構件。

4.根據(jù)權利要求1至3任一項所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述壺體在所述凹槽內(nèi)側(cè)設置有間隔分布的多個凸起，所述底基材的邊緣設置有間隔分布的若干缺口，所述底基材的厚度大于或等于所述多個凸起與壺體之間的距離，在厚膜加熱組件相對壺體旋轉(zhuǎn)第一角度時，每一凸起位于對應的一缺口處，且均可穿過所述缺口；在厚膜加熱組件相對壺體旋轉(zhuǎn)第二角度時，所述多個凸起未全部與對應的缺口對齊，部分或全部凸起壓持于底基材，以保持底基材與壺體相對固定。

5.根據(jù)權利要求4所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述多個凸起的外平面低于或平齊于所述凹槽的開口平面。

6.根據(jù)權利要求4所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述凸起與所述缺口的數(shù)量相等，或者所述凸起的數(shù)量小于所述缺口的數(shù)量。

7.根據(jù)權利要求4所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述底基材包括高熱區(qū)和設置于所述高熱區(qū)外圍的邊緣區(qū)，所述加熱厚膜位于所述高熱區(qū)，在所述厚膜加熱組件相對所述壺體旋轉(zhuǎn)所述第二角度時，所述部分或全部凸起壓持于所述底基材的邊緣區(qū)。

8.根據(jù)權利要求1至3任一項所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述壺體設置有內(nèi)螺紋，所述底基材的邊緣設置有外螺紋，所述外螺紋與所述壺體的內(nèi)螺紋相配合，以在所述厚膜加熱組件相對壺體旋轉(zhuǎn)時保持所述底基材與壺體相對固定或分離。

9.根據(jù)權利要求8所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述外螺紋設置于所述底基材邊緣的側(cè)壁，或者，所述底基材邊緣的側(cè)壁設置有延伸部，所述延伸部垂直于所述底基材所在平面，所述外螺紋設置于所述延伸部的外側(cè)。

10.根據(jù)權利要求1所述的厚膜加熱電器，其特征在于，所述底基材包括高熱區(qū)和設置于所述高熱區(qū)外圍的邊緣區(qū)，所述加熱厚膜位于所述高熱區(qū)，所述邊緣區(qū)設置有第一標識，所述壺體設置有第二標識，在所述厚膜加熱組件相對壺體旋轉(zhuǎn)至第一標識和第二標識對準時，保持所述厚膜加熱組件相對壺體停止旋轉(zhuǎn)。