[實用新型]一種采用可吸收光柵的抗反射激光器

有效

• 申請號: 202022244025.X
• 申請日: 2020-10-10
• 公開（公告）號: CN212485796U
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 侯春鴿;陳伯莊
• 申請（專利權）人: 桂林雷光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/12
• 分類號: H01S5/12;H01S5/06
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標事務所有限公司 45107
• 代理人: 陳躍琳

1.一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，主要由緩沖層(2)、下層分別限制異質結(3)、有源區(4)、上層分別限制異質結(5)、蓋層(8)、接觸層(9)、P面金屬電極(10)、N面金屬電極(1)、高反射膜(11)和增透膜(12)組成；其中緩沖層(2)、下層分別限制異質結(3)、有源區(4)、上層分別限制異質結(5)、蓋層(8)和接觸層(9)自下而上縱向疊置形成晶圓主體；高反射膜(11)位于晶圓主體的背光端面，增透膜(12)位于晶圓主體的出光端面；P面金屬電極(10)位于晶圓主體的上表面，N面金屬電極(1)位于晶圓主體的下表面；

其特征是，還進一步增設有衍射光柵層；

衍射光柵層由多個相同的光柵體橫向周期性排列形成；每個光柵體均為類梯形，并由激光衍射層(6)和激光吸收層(7)疊置而成，即激光衍射層(6)位于光柵體的下層，而激光吸收層(7)位于光柵體的上層，或者激光衍射層(6)位于光柵體的上層，而激光吸收層(7)位于光柵體的下層；激光衍射層(6)的帶隙波長小于激光器的激射波長，激光吸收層(7)的帶隙波長大于激光器的激射波長；

衍射光柵層位于蓋層(8)的下部，且其下表面與上層分別限制異質結(5)的上表面相貼；或者衍射光柵層位于緩沖層(2)的上部，并其上表面與下層分別限制異質結(3)的下表面相貼。

2.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，激光衍射層(6)由InGaAsP材料制成，激光吸收層(7)由InGaAsP材料或InGaAs材料制成。

3.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，激光衍射層(6)和激光吸收層(7)為晶格匹配材料或應力的范圍為±3000ppm的微應變材料。

4.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層的占空比介于3/10～3/5之間。

5.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層為一階衍射光柵或二階衍射光柵。

6.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層的長度小于晶圓主體的長度。

7.根據權利要求6所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層的長度與晶圓主體的長度的比值介于3/10～7/10之間。

8.根據權利要求1或6所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層位于晶圓主體的出光端面，且其側面與增透膜(12)相貼。

9.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，光柵體靠近下層分別限制異質結(3)的下表面或上層分別限制異質結(5)的上表面。

10.根據權利要求1所述的一種采用可吸收光柵的抗反射激光器，其特征是，衍射光柵層的高度也即光柵體的高度為10nm～70nm。