[實用新型]一種碎片清理裝置及電鍍設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022216543.0
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN214244654U
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 袁廣才;閆俊偉;孫少東;張國才;董士豪;王成飛;董鵬程;齊琪
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D21/18;C25D21/06;C25D5/54
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;張博

1.一種碎片清理裝置，用于對工藝設(shè)備內(nèi)產(chǎn)生碎片進行清理，其特征在于，所述碎片清理裝置包括：

用于盛放藥液及待處理基板的工藝處理槽，所述工藝處理槽的槽體底部設(shè)有藥液排出口，所述工藝處理槽的槽體側(cè)壁上設(shè)有藥液排入口；

及，自循環(huán)排碎片系統(tǒng)，所述自循環(huán)排碎片系統(tǒng)包括連通于所述藥液排出口及所述藥液排入口之間的循環(huán)管路，所述循環(huán)管路上設(shè)有用于控制所述循環(huán)管路通斷狀態(tài)的控制閥門、用于將所述循環(huán)管路內(nèi)的碎片過濾掉的碎片過濾收集裝置、以及用于為所述循環(huán)管路內(nèi)的藥液提供循環(huán)驅(qū)動力的動力泵。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述工藝處理槽的槽體底部為用于將所述工藝處理槽內(nèi)藥液引流至所述藥液排出口的第一倒錐形腔體，所述第一倒錐形腔體的底部連通所述藥液排出口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述控制閥門包括手動閥門和電磁閥門中的至少一個。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述碎片過濾收集裝置包括：從所述藥液排出口向所述藥液排入口方向，依次設(shè)置的碎片收集器和過濾器。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述碎片收集器包括：收集盒，所述收集盒呈盒體狀，所述收集盒的盒體上部設(shè)有進液口和出液口，所述收集盒的盒體下部為用于收集碎片的碎片收集腔體，所述碎片收集腔體為第二倒錐形腔體，所述碎片收集腔體的底部設(shè)有用于將碎片排出的碎片排出口，所述碎片排出口處設(shè)置有能夠打開或關(guān)閉所述碎片排出口的蓋板。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述碎片收集器還包括：過濾器，所述過濾器設(shè)置于所述出液口，包括能夠過濾不同尺寸顆粒的至少兩層過濾網(wǎng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述第二倒錐形腔體在所述進液口所在一側(cè)的側(cè)壁為與水平面呈斜夾角的斜側(cè)壁，所述第二倒錐形腔體在所述出液口所在一側(cè)的側(cè)壁為垂直水平面的豎直側(cè)壁。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述工藝處理槽的至少一側(cè)壁為回液壁，所述回液壁上分布有多個回液口，在所述回液壁上還設(shè)有過濾防護裝置，用于防止所述工藝處理槽內(nèi)的碎片進入所述回液口。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的碎片清理裝置，其特征在于，

所述過濾防護裝置包括：固定在所述回液壁上的框架、及固定于所述框架上的濾網(wǎng)。

10.一種電鍍設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至9任一項所述的碎片清理裝置，其中所述工藝處理槽為所述電鍍設(shè)備的電鍍槽。