[實(shí)用新型]一種真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022205661.1
• 申請(qǐng)日: 2020-09-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212443158U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王風(fēng)德;董春波;王肇飛;滕宗濤
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 煙臺(tái)萬(wàn)隆真空冶金股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B22D11/14
• 分類(lèi)號(hào): B22D11/14;B22D11/113
• 代理公司: 煙臺(tái)上禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 37234
• 代理人: 高峰

1.一種真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，包括熔煉設(shè)備、澆鑄設(shè)備和成型設(shè)備，

所述熔煉設(shè)備為固定在金屬架上的真空熔煉室，所述真空熔煉室配有抽真空設(shè)備和惰性氣體供氣設(shè)備，所述真空熔煉室側(cè)壁設(shè)有閘閥；

所述澆鑄設(shè)備包括真空保護(hù)室和底注爐，所述真空保護(hù)室為可密封的真空保護(hù)室，真空保護(hù)室側(cè)面設(shè)有導(dǎo)液槽，可與所述閘閥密閉對(duì)接，所述底注爐的開(kāi)口與所述真空保護(hù)室的底面平行，所述導(dǎo)液槽的出液口設(shè)置于所述底注爐開(kāi)口上方，所述底注爐底部裝有澆鑄水口，澆鑄水口適配可上下活動(dòng)的塞棒，所述真空保護(hù)室配有抽真空設(shè)備和惰性氣體供氣設(shè)備，所述澆鑄設(shè)備安裝在導(dǎo)軌上；

所述成型設(shè)備包括結(jié)晶器和鑄井，所述結(jié)晶器固定在結(jié)晶器小車(chē)上，與所述澆鑄水口的出液口可拆卸連接，所述結(jié)晶器適配引錠桿，所述結(jié)晶器正下方設(shè)有鑄井，鑄井內(nèi)設(shè)有噴淋水設(shè)備。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，所述澆鑄水口與所述結(jié)晶器通過(guò)彈性密封罩連接，所述彈性密封罩固定在所述結(jié)晶器上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，所述澆鑄水口出液口端配有可拆卸的保護(hù)罩。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，所述結(jié)晶器小車(chē)設(shè)有液壓升降設(shè)備，所述結(jié)晶器與所述澆鑄水口連接時(shí)為密閉連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，所述引錠桿配有拉鑄機(jī)，所述拉鑄機(jī)安裝于所述鑄井中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空熔煉氣氛保護(hù)半連續(xù)鑄造系統(tǒng)，其特征在于，所述鑄井最大深度為15米。