[實(shí)用新型]一種化工污水沉淀反應(yīng)釜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022191804.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN213924160U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄺洪銘 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 山東北成環(huán)境工程有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C02F1/52 | 分類(lèi)號(hào): | C02F1/52 |
| 代理公司: | 濟(jì)南文衡創(chuàng)服知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 37323 | 代理人: | 劉真 |
| 地址: | 250000 山東*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化工 污水 沉淀 反應(yīng) | ||
1.一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,包括沉淀釜(1),其特征在于:所述沉淀釜(1)的內(nèi)部設(shè)置有攪拌軸(2),攪拌軸(2)的左右兩端分別轉(zhuǎn)動(dòng)貫穿沉淀釜(1)的左右兩端,攪拌軸(2)的左端固定連接有側(cè)方電機(jī)(3),側(cè)方電機(jī)(3)的下端固定連接有安裝板(4),安裝板(4)的右端固定連接在沉淀釜(1)的左端,沉淀釜(1)的右端位于攪拌軸(2)的下方插接有濾板(5),濾板(5)位于沉淀釜(1)的內(nèi)部,沉淀釜(1)的內(nèi)底壁固定連接有水泵(6),水泵(6)的左端固定連接有水管(7),水管(7)貫穿沉淀釜(1)的左端,沉淀釜(1)的上端設(shè)置有藥劑箱(8),藥劑箱(8)的下端通過(guò)投料通道(9)與沉淀釜(1)的上端固定連接,投料通道(9)分別連通沉淀釜(1)與藥劑箱(8)的內(nèi)腔,藥劑箱(8)的上端固定連接有固定臂(10),固定臂(10)遠(yuǎn)離藥劑箱(8)的一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接有蝸輪(11),蝸輪(11)的右側(cè)嚙合有蝸桿(12);
所述蝸桿(12)的外部套接有兩個(gè)豎桿(13),兩個(gè)豎桿(13)分別位于蝸輪(11)的前后兩側(cè),豎桿(13)的下端固定連接在藥劑箱(8)的上端,蝸桿(12)的前端固定連接有上方電機(jī)(14),上方電機(jī)(14)的下端通過(guò)連接桿(15)與藥劑箱(8)的前端固定連接,蝸輪(11)的下端固定連接有自鎖電機(jī)(16),自鎖電機(jī)(16)的輸出軸固定連接有絲杠(19),蝸輪(11)的下端位于自鎖電機(jī)(16)的左右兩端均固定連接有限位桿(17),藥劑箱(8)的上端開(kāi)設(shè)有圓槽(18),絲杠(19)與限位桿(17)均位于圓槽(18)的內(nèi)部,投料通道(9)的內(nèi)部設(shè)置有投料盤(pán)(20),絲杠(19)與限位桿(17)均貫穿投料盤(pán)(20)的上端,絲杠(19)與投料盤(pán)(20)螺紋連接,限位桿(17)與投料盤(pán)(20)滑動(dòng)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,其特征在于:所述絲杠(19)遠(yuǎn)離自鎖電機(jī)(16)的一端套接有穩(wěn)定桿(21),穩(wěn)定桿(21)遠(yuǎn)離絲杠(19)的一端固定連接在沉淀釜(1)上端的內(nèi)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,其特征在于:所述沉淀釜(1)的右端開(kāi)設(shè)有滑槽(22),濾板(5)插接在滑槽(22)的內(nèi)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,其特征在于:所述投料盤(pán)(20)的直徑等于投料通道(9)的內(nèi)徑,投料盤(pán)(20)的圓周面開(kāi)設(shè)有四個(gè)方形孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,其特征在于:所述藥劑箱(8)的內(nèi)底壁為坡面結(jié)構(gòu),藥劑箱(8)的內(nèi)底壁的左右兩端高于中間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水沉淀反應(yīng)釜,其特征在于:所述限位桿(17)與絲杠(19)的圓心在同一直線(xiàn)上,兩個(gè)限位桿(17)以絲杠(19)為中心呈鏡像分布。
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