[實用新型]一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022155959.6
• 申請日: 2020-09-27
• 公開（公告）號: CN213147392U
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設計）人: 丁金鐸;崔恒;葛春橋;柳春熙;金志洸;王夢涵
• 申請（專利權）人: 中山智隆新材料科技有限公司
• 主分類號: F27B14/10
• 分類號: F27B14/10;C22B58/00
• 代理公司: 廣東科信啟帆知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44710
• 代理人: 吳少東

1.一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，包括坩堝主體(1)和墊塊(2)，其特征在于：所述墊塊(2)安裝在坩堝主體(1)的左右兩側(cè)上端外壁上，所述墊塊(2)的上端外壁上設置有旋轉(zhuǎn)套(4)，所述旋轉(zhuǎn)套(4)的內(nèi)部貫穿有螺紋桿(6)，所述螺紋桿(6)的上端連接有手盤(3)，所述螺紋桿(6)的下端連接有封堵塊(9)，所述旋轉(zhuǎn)套(4)的下端連接有按壓推管(7)，所述按壓推管(7)的下端連接有按壓塊(8)，所述按壓推管(7)靠近下端的圓周內(nèi)壁上連接有固定盤(11)，所述固定盤(11)的下側(cè)設置有活動盤(14)，所述固定盤(11)與活動盤(14)對向內(nèi)壁之間設置有推力彈簧(13)，所述固定盤(11)與活動盤(14)的中心位置嵌設有軸承(12)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述坩堝主體(1)的內(nèi)部設置有熔煉腔，所述坩堝主體(1)靠近下端的左右兩側(cè)圓周外壁上均設置有排料漏嘴(5)，兩個所述排料漏嘴(5)與熔煉腔的底部相連通。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)套(4)下側(cè)的兩個墊塊(2)均為半環(huán)狀結(jié)構(gòu)，兩個所述墊塊(2)左右對稱包夾于按壓推管(7)上端外部。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述按壓塊(8)的圓周外壁上設置有十字型分布的導向條(10)，所述坩堝主體(1)的圓周內(nèi)壁上設置有十字型分布的導向槽。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述固定盤(11)與活動盤(14)的圓心豎向在一條直線上。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述封堵塊(9)的左右兩側(cè)外壁上開設有排氣孔(15)，所述按壓塊(8)的左右兩側(cè)外壁上開設有進氣通道(16)。

7.根據(jù)權利要求6所述的一種用于制備高純納米氧化銦粉末的銦粉坩堝，其特征在于：所述排氣孔(15)圓周外側(cè)的封堵塊(9)下端外壁上設置有凸環(huán)，所述凸環(huán)下側(cè)的按壓塊(8)上端外壁上開設有環(huán)形凹槽。