[實用新型]一種金屬掩膜板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022129679.8
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN213357723U
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林少欽
• 申請（專利權(quán)）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/14;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35219
• 代理人: 林祥翔;徐劍兵

1.一種金屬掩膜板，其特征在于，包括：金屬掩膜板母板和多個金屬掩膜片，多個所述金屬掩膜片陣列設(shè)置于所述金屬掩膜板母板上；

所述金屬掩膜板母板上陣列設(shè)置有多個第一有效區(qū)開口，所述金屬掩膜片上陣列設(shè)置有多個第二有效區(qū)開口；所述第二有效區(qū)開口在所述金屬掩膜板母板上的正投影落入對應(yīng)的所述第一有效區(qū)開口內(nèi)；

所述金屬掩膜板母板上還陣列設(shè)置有多個第一校正區(qū)開口，所述金屬掩膜片上還陣列設(shè)置有多個第二校正區(qū)開口；所述第二校正區(qū)開口在所述金屬掩膜板母板上的正投影落入對應(yīng)的所述第一校正區(qū)開口內(nèi)；

每個所述金屬掩膜片上至少設(shè)置一個所述第二校正區(qū)開口；所述金屬掩膜片對應(yīng)的所述金屬掩膜板母板的區(qū)域上，至少設(shè)置一個與所述第二校正區(qū)開口對應(yīng)的所述第一校正區(qū)開口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種金屬掩膜板，其特征在于，每個所述第一有效區(qū)開口的一側(cè)均設(shè)置有一個所述第一有效區(qū)開口，且每個所述第一校正區(qū)開口的一側(cè)均設(shè)置有一個所述第一校正區(qū)開口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種金屬掩膜板，其特征在于，還包括：設(shè)置于基板上的標(biāo)記，所述標(biāo)記置于所述第二校正區(qū)開口下方，且所述第二校正區(qū)開口在基板上正投影與所述標(biāo)記重合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種金屬掩膜板，其特征在于，每個所述金屬掩膜片上設(shè)置有一行的所述第二有效區(qū)開口。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種金屬掩膜板，其特征在于，所述金屬掩膜板母板包括：金屬框架和支撐板；所述支撐板置于所述金屬框架內(nèi)，且所述第一有效區(qū)開口和第一校正區(qū)開口置于所述支撐板上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種金屬掩膜板，其特征在于，所述金屬掩膜片兩端還設(shè)置有缺口，所述金屬掩膜片通過缺口與所述金屬框架連接，且所述缺口用于調(diào)節(jié)所述金屬掩膜片在所述金屬掩膜板母板上的位置。