[實(shí)用新型]一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022115404.9
• 申請(qǐng)日: 2020-09-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213388893U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫勁松;孔凡濤;陸再超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無(wú)錫吉易特半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/54
• 分類號(hào): C23C16/54;C23C16/50;C23C16/26;C23C16/458;C23C16/56;C23C16/52
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• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，包括碳膜沉積反應(yīng)腔；其特征在于，還包括工作臺(tái)、鍍膜腔室和緩冷腔室；所述鍍膜腔室和緩冷腔固定在工作臺(tái)，且鍍膜腔室的一側(cè)與緩冷腔室的一側(cè)連通；所述鍍膜腔室的另一側(cè)壁開(kāi)設(shè)進(jìn)料口，進(jìn)料口處設(shè)有一號(hào)傳送帶，且一號(hào)傳送帶一端位于進(jìn)料口處，一號(hào)傳送帶的另一端從而碳膜沉積反應(yīng)腔的進(jìn)口伸入碳膜沉積反應(yīng)腔內(nèi)，碳膜沉積反應(yīng)腔的出口處設(shè)有鍍膜單元；所述鍍膜單元包括鍍膜槽和打撈板；所述鍍膜槽的一側(cè)位于碳膜沉積反應(yīng)腔的出口處，鍍膜槽內(nèi)側(cè)壁上鉸接打撈板，且打撈板的中心位置與外界的電機(jī)輸出軸連接，鍍膜槽的另一側(cè)下方設(shè)有二號(hào)傳送帶，且二號(hào)傳送帶位于鍍膜腔室和緩冷腔室之間；所述緩冷腔室用于減緩物料的冷卻速度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜腔室的上端面設(shè)有儲(chǔ)料桶，儲(chǔ)料桶內(nèi)承裝有鍍膜原料，儲(chǔ)料桶的下端設(shè)有導(dǎo)管，導(dǎo)管一端與儲(chǔ)料桶連通，導(dǎo)管的另一端位于鍍膜槽的一側(cè)上方，且導(dǎo)管上設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述打撈板由聚氯乙烯塑料材質(zhì)制成，打撈板上均勻開(kāi)設(shè)多個(gè)通孔，打撈板的端部設(shè)有輔助板；所述輔助板呈圓弧狀，輔助板的端部為尖端，且輔助板由橡膠材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述緩冷腔室內(nèi)設(shè)有加熱電阻絲、翻轉(zhuǎn)板和三號(hào)傳送帶；所述緩冷腔室的側(cè)壁上設(shè)有一層保溫棉，保溫棉上安置加熱電阻絲，加熱電阻絲的下方為二號(hào)傳送帶、翻轉(zhuǎn)板和三號(hào)傳送帶；所述翻轉(zhuǎn)板位于二號(hào)傳送帶端部的下方，翻轉(zhuǎn)板的中心位置連接外界電機(jī)的輸出軸端部，翻轉(zhuǎn)板一側(cè)的下方為三號(hào)傳送帶的一端，三號(hào)傳送帶的另一端位于緩冷腔室的出口處。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述翻轉(zhuǎn)板的橫截面呈中間內(nèi)凹，兩側(cè)凸起的形狀，且翻轉(zhuǎn)板呈鏤空狀。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述緩冷腔室的出口處設(shè)有預(yù)存箱；所述預(yù)存箱滑動(dòng)連接在緩冷腔室的出口內(nèi)，且預(yù)存箱的內(nèi)側(cè)壁包裹一側(cè)保溫棉。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種傳輸裝置鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述二號(hào)傳送帶和三號(hào)傳送帶的表面均勻設(shè)有凸臺(tái)。