[實用新型]脈沖射線控制設(shè)備和射線掃描系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022084885.1
• 申請日: 2020-09-21
• 公開（公告）號: CN213430174U
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周鋮龍
• 申請（專利權(quán)）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技股份有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 杭州華進(jìn)聯(lián)浙知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33250
• 代理人: 金無量

1.一種脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備用于控制射線發(fā)射裝置發(fā)出的射線，所述射線發(fā)射裝置包括供所述射線出射的射線發(fā)射窗口；所述設(shè)備包括：遮擋裝置和控制裝置；

所述遮擋裝置設(shè)置在所述射線的路徑上；

所述遮擋裝置由射線吸收材料制成；

所述控制裝置與所述遮擋裝置連接；所述控制裝置用于控制所述遮擋裝置間歇性地遮擋所述射線發(fā)射窗口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述遮擋裝置包括轉(zhuǎn)盤；

所述轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有沿所述轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)中心發(fā)散的且具有預(yù)設(shè)尺寸的多個第一遮擋體；其中，所述第一遮擋體由具有第一吸收系數(shù)的材料制成，所述多個第一遮擋體之間存在間隔，且在所述間隔之間存在具有第二吸收系數(shù)的材料或無材料，所述第二吸收系數(shù)小于所述第一吸收系數(shù)；

所述控制裝置用于控制所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，進(jìn)而控制所述第一遮擋體間歇性地遮擋所述射線發(fā)射窗口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)中心由所述具有第一吸收系數(shù)的材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)中心正投影至所述射線發(fā)射窗口的位置，與所述射線發(fā)射窗口所在位置之間存在第一偏移距離，且所述第一偏移距離在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述遮擋裝置包括第二遮擋體和滑軌；

所述第二遮擋體與所述滑軌滑動連接，所述第二遮擋體由所述射線吸收材料制成；

所述控制裝置用于控制所述第二遮擋體沿所述滑軌滑動，進(jìn)而控制所述第二遮擋體間歇性地遮擋所述射線發(fā)射窗口，以形成所述脈沖射線。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述控制裝置包括電機(jī)和變頻器；

所述電機(jī)用于驅(qū)動所述遮擋裝置運(yùn)動；

所述變頻器與所述電機(jī)連接，所述變頻器用于調(diào)節(jié)所述遮擋裝置的運(yùn)動速度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述電機(jī)正投影至所述射線發(fā)射窗口的位置，與所述射線發(fā)射窗口所在位置之間存在第二偏移距離，且所述第二偏移距離在第二預(yù)設(shè)范圍內(nèi)；

所述變頻器正投影至所述射線發(fā)射窗口的位置，與所述射線發(fā)射窗口所在位置之間存在第三偏移距離，且所述第三偏移距離在第三預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述遮擋裝置的第一表面，平行于所述射線發(fā)射裝置的第二表面；其中，所述第一表面與所述第二表面之間的垂線段距離，等于所述遮擋裝置和所述射線發(fā)射裝置之間的最短距離。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脈沖射線控制設(shè)備，其特征在于，所述射線吸收材料為鎢。

10.一種射線掃描系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括射線發(fā)射裝置，以及權(quán)利要求1至9任一項所述的脈沖射線控制設(shè)備。