[實用新型]一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭有效
| 申請號: | 202022073530.2 | 申請日: | 2020-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN213858731U | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發明(設計)人: | 劉建業 | 申請(專利權)人: | 江門市蓬江區泰德利機械設備有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/30 | 分類號: | B24B37/30;B24B37/32 |
| 代理公司: | 江門市博盈知識產權代理事務所(普通合伙) 44577 | 代理人: | 何辦君 |
| 地址: | 529000 廣東省江門市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 化學 機械拋光 保持 承載 | ||
本實用新型涉及化學機械拋光技術領域,且公開了一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭,包括拋光機輸出主軸,拋光機輸出主軸的下端連接有化學機械拋光承載頭;化學機械拋光承載頭的側壁上對稱開設有多個定位螺栓連接孔,化學機械拋光承載頭上安裝有便捷化學機械拋光保持環;便捷化學機械拋光保持環的兩側均連接有便捷拆裝連接把手;便捷拆裝連接把手的外表面設置有定位螺栓。該化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭,通過化學機械拋光承載頭和多個定位螺栓連接孔配合使用,使保持環與晶圓的距離能夠達到最佳位置,防止晶圓出現過拋現象,能夠有效的避免金屬離子污染和保持環與晶圓發生機械碰撞,提升了設備的實用效果和安全性能。
技術領域
本實用新型涉及化學機械拋光技術領域,具體為一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭。
背景技術
化學機械拋光是一種全局平整化的超精密表面加工技術。這種拋光方法通常將基板吸合于承載頭的下部,基板具有沉積層的底面抵接于旋轉的拋光墊,承載頭在驅動部件的帶動下與拋光墊同向旋轉并給予基板向下的載荷;同時,拋光液供給于拋光墊與基板之間,在化學和機械的共同作用下實現基板的材料去除?;瘜W機械拋光過程中容易發生基板表面被金屬污染物劃傷和金屬污染物超標的問題,這都是在芯片制造領域難以接受的。一般而言,一旦發現基板表面被金屬污染物劃傷或金屬污染物超標,則可能需要更換全部相關耗材,從而大幅增加生產成本、降低生產效率。
中國已授權實用新型公開(公告)號:CN211163459U中公開的一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭,該化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭通過在保持環金屬部的頂面、內側面和外側面設置有耐涂層,其可有效保護保持環的金屬部,防止金屬部與其他部件發生磕碰而產生金屬離子污染,避免金屬離子污染對化學機械拋光生產的影響;但是在實際使用過程中,通過上述對比專利的結構設計,由于保持環和承載頭之間無法進行簡單的可拆卸連接,導致其具有適用性不高的缺點,無法根據所需要化學機械拋光加工的加工件實際情況選擇最為合適連接距離,而且當正常生產過程中發生意外情況,導致保持環無法繼續進行正常的加工保護工作時,并沒有備用保持環可以進行快速的更換工作,大大降低的設備的生產效率,故而提出以上一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭以解決上述問題。
實用新型內容
(一)解決的技術問題
針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭,解決了上述背景技術中提出的現有的無法調節承載頭和保持環之間距離和無法進行快速更換保持環操作的問題。
(二)技術方案
為實現以上目的,本實用新型通過以下技術方案予以實現:
一種化學機械拋光保持環和化學機械拋光承載頭,包括拋光機輸出主軸,所述拋光機輸出主軸的下端連接有化學機械拋光承載頭;所述化學機械拋光承載頭的側壁上對稱開設有多個定位螺栓連接孔,所述化學機械拋光承載頭上安裝有便捷化學機械拋光保持環;所述便捷化學機械拋光保持環的兩側均連接有便捷拆裝連接把手;兩個所述便捷拆裝連接把手一側外表面的中部位置均設置有定位螺栓。
進一步的,所述化學機械拋光承載頭的上端固定連接有可控制化學機械拋光承載頭轉動速度的拋光機輸出主軸,所述拋光機輸出主軸與化學機械拋光承載頭相適配。
進一步的,所述便捷化學機械拋光保持環共有兩個,兩個所述便捷化學機械拋光保持環通過便捷拆裝連接把手相連接,兩個所述便捷化學機械拋光保持環對稱分布在兩個便捷拆裝連接把手的兩端。
進一步的,兩個所述便捷化學機械拋光保持環均包括有防磨損保護環套和保持環鈑金,所述防磨損保護環套均與化學機械拋光承載頭相適配,所述防磨損保護環套均連接有相適配的保持環鈑金,所述便捷化學機械拋光保持環通過防磨損保護環套與化學機械拋光承載頭活動連接。
進一步的,所述防磨損保護環套均為環形結構,所述防磨損保護環套均由聚酰亞胺材料構成,所述防磨損保護環套均通過雙層復合的形式注塑成型。
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