[實用新型]提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置

有效

• 申請號: 202022025421.3
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN213086167U
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 馬駿;馬坤松;張順華;盧京敏
• 申請（專利權）人: 揚州宏遠電子股份有限公司
• 主分類號: C25F7/00
• 分類號: C25F7/00;C25F3/04;H01G13/00;H01G9/055
• 代理公司: 南京蘇創專利代理事務所(普通合伙) 32273
• 代理人: 張艷

1.一種提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，該裝置設置于電解槽內部，其特征在于：包括兩塊規格一致的電極板和兩塊規格一致的側封板，電極板和側封板均為矩形形狀，且均豎直設置，電極板和側封板的高度一致，電極板和側封板的豎向邊緣相間順次連接圍繞成一個橫截面為矩形的鋁光箔腐蝕通道；

所述鋁光箔腐蝕通道的下端口設置有噴液盒，噴液盒上端面中間開設有噴液口，所述鋁光箔從噴液盒經過時，鋁光箔從噴液口中間穿過；噴液盒的兩端均開設有兩個進液口，每個進液口均連接有進液管道，進液口位于鋁光箔的兩側；

每個所述側封板在其靠近頂部的位置開設有溢流口。

2.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：所述噴液盒包括兩個水平并排的腔室，兩個腔室之間預留間距，鋁光箔從該間距中穿過，從下向上移動，每個腔室頂部靠近鋁光箔的位置開設有噴液口，噴液口位于鋁光箔的兩側，每個腔室的兩端均開設有進液口。

3.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：所述噴液盒包括水平設置的底板和頂板，所述底板和頂板的兩端分別與對應端的側封板固定，底板和頂板的中線開設有給鋁光箔通過的缺口，頂板的缺口形成噴液口。

4.根據權利要求2所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：兩個所述腔室相對側均設置有內封板，內封板的頂部與頂板之間預留噴液口。

5.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：每根所述進液管道設置有流量計。

6.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：所述側封板朝向鋁光箔腐蝕通道內一側設置有導箔槽，所述鋁光箔的水平兩側位于導箔槽中。

7.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：所述電極板選用石墨電極板，且連接電源；所述側封板為PP材質，所述鋁光箔為方形片狀鋁箔。

8.根據權利要求1所述的提高中高壓腐蝕箔寬度方向及兩側表面比容均勻性的裝置，其特征在于：所述電解槽內設置有固定支架，所述固定支架固定連接側封板和/或電極板。