[實用新型]氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022013747.4 | 申請日: | 2020-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN213013089U | 公開(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉軍;沈文建 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江泰恒新能源有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/30 |
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| 地址: | 324300 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氧化 鈍化 用管式 pecvd | ||
本實用新型公開了氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐,包括底柜和管體,所述底柜中部安裝有操作臺,且底柜內(nèi)部安裝有抽氣泵,所述底柜頂部安裝有加熱爐,且加熱爐表面固定有連接塊,且連接塊另一端連接有卡塊,所述卡塊另一端連接有爐蓋,且爐蓋表面嵌入有觀測玻璃,所述底柜內(nèi)部安裝有抽氣泵,所述加熱爐表面開設(shè)有通孔,且通孔下方設(shè)置有夾持塊,所述夾持塊內(nèi)部連接有復(fù)位彈簧。該氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐通過夾持塊、復(fù)位彈簧與限位臂之間的相互配合設(shè)置,使其將管體放置于夾持塊內(nèi)部時,管體壓動復(fù)位彈簧與限位臂向下移動,使其彎曲狀限位臂的另一端向下將管體夾持固定,且通過軟膠塊與限位臂之間的相互配合設(shè)置,使其提升了夾持的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及氮氧化硅加工技術(shù)領(lǐng)域,具體為氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐。
背景技術(shù)
電池片在生產(chǎn)過程中,需要在硅片的表面鍍上一層減反射膜,采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積方法,使氣體在硅電池片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并形成覆蓋層,即減反射膜,此減反射膜的主要作用是:降低反射率、良好的體鈍化和表面鈍化,以及利用氮化硅薄膜的強致密性和耐多數(shù)酸堿性,在硅片表面形成保護層。電池片的PECVD工序一般通過PECVD機完成,PECVD機在石英管的兩端通微波源,表面抽真空的條件下將氨氣和硅烷分解成高能離子狀態(tài),經(jīng)過一系列化學(xué)反應(yīng)轉(zhuǎn)變成氮化硅氣體,在硅片表面沉積氮化硅固態(tài)薄膜,同時分解出來的氫離子,將硅片表面原有缺陷鈍化。
現(xiàn)有的氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐對于內(nèi)部管體的固定過于麻煩,且拆卸過程與固定的過程費時費力,以至于導(dǎo)致爐體工作效率的低下,針對上述情況,我們推出了氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐,以解決上述背景技術(shù)中提出一般的氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐對于內(nèi)部管體的固定過于麻煩,且拆卸過程與固定的過程費時費力,以至于導(dǎo)致爐體工作效率的低下的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐,包括底柜和管體,所述底柜中部安裝有操作臺,且底柜內(nèi)部安裝有抽氣泵,所述底柜頂部安裝有加熱爐,且加熱爐表面固定有連接塊,所述連接塊另一端連接有卡塊,所述卡塊另一端連接有爐蓋,且爐蓋表面嵌入有觀測玻璃,所述底柜內(nèi)部安裝有抽氣泵,所述加熱爐表面開設(shè)有通孔,且通孔下方設(shè)置有夾持塊,所述夾持塊內(nèi)部連接有復(fù)位彈簧,且復(fù)位彈簧另一端連接有限位臂,所述限位臂表面連接有軟膠塊,所述管體連接于加熱爐內(nèi)部,且管體端連接有氣壓計,所述管體另一端連接有導(dǎo)管,且導(dǎo)管底部連接有彈簧管,所述管體內(nèi)部設(shè)置有石英層,且石英層外部連接有保溫層。
優(yōu)選的,所述爐蓋通過連接塊、卡塊與加熱爐之間構(gòu)成固定結(jié)構(gòu),且加熱爐呈矩形狀。
優(yōu)選的,所述夾持塊關(guān)于加熱爐的豎直中心線呈左右對稱分布,且夾持塊與加熱爐之間呈固定連接。
優(yōu)選的,所述限位臂通過復(fù)位彈簧與夾持塊之間構(gòu)成彈性結(jié)構(gòu),且限位臂呈彎曲狀。
優(yōu)選的,所述管體貫穿于加熱爐兩端,且管體的外口尺寸與通孔的內(nèi)口尺寸相吻合。
優(yōu)選的,所述管體通過保溫層與石英層之間構(gòu)成全包圍結(jié)構(gòu),且保溫層與石英層之間相互貼合。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:該氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐通過夾持塊、復(fù)位彈簧與限位臂之間的相互配合設(shè)置,使其將管體放置于夾持塊內(nèi)部時,管體壓動復(fù)位彈簧與限位臂向下移動,使其彎曲狀限位臂的另一端向下將管體夾持固定,且通過軟膠塊與限位臂之間的相互配合設(shè)置,使其提升了夾持的穩(wěn)定性。
該氮氧化硅背鈍化用管式PECVD爐通過管體內(nèi)部石英層與保溫層之間的相互配合設(shè)置,使其在加熱爐將內(nèi)部加熱時,保持內(nèi)部的溫度,減少熱量的流失,從而達到減少資源的情況,通過彈簧管的設(shè)置,使其彈簧管體保持柔韌性可彎曲,從而在抽氣時保持良好的穩(wěn)定性,進一步延長了該裝置的使用壽命。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





