[實用新型]一種基于導軌的高精度測量系統

有效

• 申請號: 202022012104.8
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN212779010U
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 李巍;王鈺瑩
• 申請（專利權）人: 深圳市英諾維系統有限公司
• 主分類號: G01B5/02
• 分類號: G01B5/02;G01B7/02;G01B11/02
• 代理公司: 深圳科灣知識產權代理事務所(普通合伙) 44585
• 代理人: 鐘斌

1.一種基于導軌的高精度測量系統，包括至少一條導軌(2)、對應滑接于所述導軌(2)上的滑塊(5)，其特征在于，在其中的一個導軌(2)上，導軌頂面或導軌的其中一個側面且沿所述導軌(2)長度方向設置有貫通所述導軌(2)兩端的直槽(21)，所述直槽(21)的底面設有一具有刻度的基準量具(3)，所述滑塊(5)的一端連接有傳感器讀取裝置(4)，該傳感器讀取裝置(4)上的讀頭朝向所述基準量具(3)且沿所述基準量具(3)做直線運動，所述基準量具(3)與所述直槽(21)、所述導軌(2)的軌道槽、所述滑塊(5)形成同軸線結構。

2.根據權利要求1所述的一種基于導軌的高精度測量系統，其特征在于，所述基準量具(3)包括具有刻度的尺帶(31)和覆蓋于所述尺帶(31)上表面的透明保護層(32)。

3.根據權利要求2所述的一種基于導軌的高精度測量系統，其特征在于，所述尺帶(31)包括以下結構的一種：

直接刻在所述直槽(21)底面的光柵尺；

貼附于所述直槽(21)底面的光柵尺；

滑插于所述直槽(21)底面的光柵尺；

貼附于所述直槽(21)底面的磁柵尺；

滑插于所述直槽(21)底面的磁柵尺。

4.根據權利要求2所述的一種基于導軌的高精度測量系統，其特征在于，所述尺帶(31)膠粘于或滑插于所述直槽(21)底面且形成平直結構。

5.根據權利要求2所述的一種基于導軌的高精度測量系統，其特征在于，所述保護層(32)為耐摩擦的高硬度保護膜。