[實(shí)用新型]一種蒸鍍坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021872001.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN212655852U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林少欽 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 福建華佳彩有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/24;H01L51/56;C23C14/12 |
| 代理公司: | 福州市博深專(zhuān)利事務(wù)所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 顏麗蓉 |
| 地址: | 351100 福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 坩堝 | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種蒸鍍坩堝,包括坩堝本體、加熱組件、蓋板和用于均勻擴(kuò)散氣體的分散組件;所述蓋板具有多個(gè)均勻分布的出料孔;所述坩堝本體內(nèi)具有用于盛裝有機(jī)材料的容置腔,所述容置腔頂部具有與基板尺寸相匹配的開(kāi)口;所述加熱組件、所述分散組件和所述蓋板由下至上依次裝設(shè)于所述容置腔內(nèi)。本實(shí)用新型采用面源蒸鍍的方式,利用分散組件實(shí)現(xiàn)氣體分子的均勻擴(kuò)散,達(dá)到提高有機(jī)材料利用率的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及顯示屏制造領(lǐng)域,尤其是指一種蒸鍍坩堝。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)具有對(duì)比度更高、色域廣、視角廣、低功耗、體積更小等優(yōu)點(diǎn),在曲面屏、可穿戴式顯示等領(lǐng)域具有更廣泛的應(yīng)用及更顯著的優(yōu)勢(shì),在顯示技術(shù)中備受關(guān)注。
OLED顯示屏有機(jī)發(fā)光層的主要工藝流程為將裝在坩堝內(nèi)的有機(jī)材料進(jìn)行加熱升華成氣體分子,進(jìn)而附著在TFT基板的指定區(qū)域上;上述制作過(guò)程中,有機(jī)發(fā)光層的附著狀態(tài)、均一性皆影響著OLED屏的顯示效果。
現(xiàn)有蒸鍍?cè)捶贮c(diǎn)源和線源兩種,采用點(diǎn)源蒸鍍時(shí),TFT基板會(huì)在蒸鍍?cè)瓷戏叫D(zhuǎn),以達(dá)到材料盡可能均一附著的效果,而采用線源蒸鍍時(shí),線源坩堝會(huì)在TFT基板下來(lái)回移動(dòng)以將材料鍍滿整個(gè)TFT基板,這兩種方式都是通過(guò)基板或者蒸鍍?cè)匆苿?dòng)的方式來(lái)蒸鍍,這將會(huì)影響到有機(jī)材料氣體氛圍,導(dǎo)致鍍膜均一性存在不佳;并且點(diǎn)源材料利用率在5%左右,線源材料利用率約20%,兩種設(shè)計(jì)均存在材料利用率低,材料存在嚴(yán)重浪費(fèi)的現(xiàn)象;而有機(jī)材料價(jià)格昂貴,在目前OLED屏的生產(chǎn)成本上材料支出占了較高比例。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種蒸鍍坩堝,提高有機(jī)材料利用率。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:
一種蒸鍍坩堝,包括坩堝本體、加熱組件、蓋板和用于均勻擴(kuò)散氣體的分散組件;
所述蓋板具有多個(gè)均勻分布的出料孔;
所述坩堝本體內(nèi)具有用于盛裝有機(jī)材料的容置腔,所述容置腔頂部具有與基板尺寸相匹配的開(kāi)口;
所述加熱組件、所述分散組件和所述蓋板由下至上依次裝設(shè)于所述容置腔內(nèi)。
進(jìn)一步的,所述加熱組件包括第一加熱板和第二加熱板;
所述第二加熱板與所述第一加熱板相互交叉地連接,用于將所述容置腔分隔出多個(gè)加熱空間。
進(jìn)一步的,所述第一加熱板的厚度小于1mm。
進(jìn)一步的,所述第二加熱板的厚度小于1mm。
進(jìn)一步的,所述第一加熱板和所述第二加熱板均具有多個(gè);
多個(gè)所述第二加熱板相互平行地設(shè)置,多個(gè)所述第一加熱板相互平行地設(shè)置;所述第二加熱板與所述第一加熱板相互垂直地設(shè)置。
進(jìn)一步的,所述開(kāi)口呈矩形、圓形或橢圓形。
進(jìn)一步的,所述容置腔的橫截面面積由下至上逐漸增大。
進(jìn)一步的,所述分散組件包括第一分散板和第二分散板;
所述第一分散板和所述第二分散板由上至下依次裝設(shè)于所述容置腔內(nèi);
所述第一分散板與所述第二分散板間具有間距,用于在所述第一分散板、所述第二分散板和所述容置腔內(nèi)壁間形成分散腔;
所述第一分散板沿X軸方向開(kāi)設(shè)有多個(gè)第一狹縫開(kāi)口;
所述第二分散板沿Y軸方向開(kāi)設(shè)有多個(gè)第二狹縫開(kāi)口;
所述第一狹縫開(kāi)口與所述第二狹縫開(kāi)口相互垂直。
進(jìn)一步的,所述出料孔豎直向上設(shè)置。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





