[實用新型]一種掩膜板框架結構有效
| 申請號： | 202021869742.5 | 申請日： | 2020-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN212808907U | 公開（公告）日： | 2021-03-26 |
| 發明（設計）人： | 譚照明 | 申請（專利權）人： | 深圳市鑫旺興電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 深圳市中科創為專利代理有限公司 44384 | 代理人： | 譚雪婷;謝亮 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩膜板 框架結構 | ||
1.一種掩膜板框架結構，包括掩膜板本體(1)，其特征在于：所述掩膜板本體(1)的底部設置有框架本體(2)，所述框架本體(2)頂部前側和后側的兩側均固定連接有限位桿(3)，所述掩膜板本體(1)的底部開設有與限位桿(3)配合使用的限位孔(4)，所述掩膜板本體(1)頂部前側和后側的兩側均固定連接有殼體(5)，所述殼體(5)的底部開設有與限位桿(3)配合使用的通孔(6)，所述限位桿(3)的頂部穿過限位孔(4)和通孔(6)并延伸至殼體(5)的內腔，所述殼體(5)的內腔設置有與限位桿(3)配合使用的固定機構(7)，所述殼體(5)的頂部設置有與固定機構(7)配合使用的活動機構(8)，所述殼體(5)的兩側均開設有與固定機構(7)配合使用的固定孔(9)，所述限位桿(3)的兩側均開設有與固定機構(7)配合使用的固定槽(10)，所述殼體(5)的頂部開設有與活動機構(8)配合使用的活動孔(11)，所述殼體(5)內壁的兩側均開設有滑槽(12)，所述滑槽(12)的內腔滑動連接有與活動機構(8)配合使用的滑塊(13)。
2.如權利要求1所述的一種掩膜板框架結構，其特征在于：所述固定機構(7)包括固定桿(701)，所述固定桿(701)靠近限位桿(3)的一側穿過固定孔(9)并延伸至固定槽(10)的內腔，所述固定桿(701)遠離固定槽(10)的一側固定連接有活動塊(702)，所述活動塊(702)遠離固定槽(10)的一側固定連接有彈簧(703)，所述固定桿(701)與活動機構(8)配合使用。
3.如權利要求2所述的一種掩膜板框架結構，其特征在于：所述活動機構(8)包括按鈕(801)，所述按鈕(801)的底部穿過活動孔(11)并固定連接有活動板(802)，所述活動板(802)的底部活動連接有與固定桿(701)配合使用的活動桿(803)。
4.如權利要求1所述的一種掩膜板框架結構，其特征在于：所述限位桿(3)靠近限位孔(4)內壁的一側與限位孔(4)的內壁接觸，所述滑塊(13)靠近滑槽(12)內壁的一側與滑槽(12)的內壁接觸。
5.如權利要求2所述的一種掩膜板框架結構，其特征在于：所述固定桿(701)靠近固定槽(10)內壁的一側與固定槽(10)的內壁接觸，所述彈簧(703)遠離活動塊(702)的一側與殼體(5)的內壁固定連接。
6.如權利要求3所述的一種掩膜板框架結構，其特征在于：所述按鈕(801)靠近活動孔(11)內壁的一側與活動孔(11)的內壁接觸，所述活動桿(803)通過轉軸與活動板(802)和固定桿(701)活動連接，所述活動板(802)的兩側與滑塊(13)固定連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市鑫旺興電子有限公司，未經深圳市鑫旺興電子有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202021869742.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種應用于高壓大電流的連接器
- 下一篇：一種線纜盤搬運小車
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
