[實用新型]拋光溫度調節裝置和化學機械拋光設備

有效

• 申請號: 202021815464.5
• 申請日: 2020-08-27
• 公開（公告）號: CN211589697U
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 孟松林;魏聰;其他發明人請求不公開姓名
• 申請（專利權）人: 華海清科（北京）科技有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/015;B24B57/02;B24B49/14;B24B55/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種拋光溫度調節裝置，其特征在于，用于在化學機械拋光時調節拋光墊和/或拋光液的溫度，所述拋光溫度調節裝置包括調溫臂、基座和驅動機構；

所述基座與所述調溫臂固定連接，所述基座與所述驅動機構連接以帶動所述調溫臂上下移動；所述調溫臂的底表面的材料為高導熱率材料，所述調溫臂設于拋光墊上方并可下移至與拋光墊表面接觸或與拋光墊表面的拋光液接觸，所述調溫臂的內部設有流體通道用于流通一定溫度的流體以控制所述底表面的溫度從而調節與所述底表面接觸的拋光墊或拋光液的拋光溫度。

2.如權利要求1所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，還包括安裝在所述調溫臂底部的溫度傳感器，用于在所述調溫臂與拋光墊或拋光液接觸時檢測所述拋光溫度。

3.如權利要求2所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，所述調溫臂的流體通道通過管路與流體供給源連接，所述管路上設有流量控制閥以調節所述流體通道內的流體流量從而改變所述底表面的溫度。

4.如權利要求3所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，還包括安裝在所述調溫臂底部的壓力傳感器，用于檢測所述底表面與所述拋光墊之間的壓力以控制該壓力不大于固定值從而減少所述底表面與拋光墊之間的摩擦。

5.如權利要求4所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，還包括控制器，所述控制器分別與所述驅動機構、所述溫度傳感器、所述流量控制閥和所述壓力傳感器連接。

6.如權利要求1所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，所述流體通道包括分別延所述調溫臂長度方向延伸的進液管道和出液管道，進液管道和出液管道在調溫臂內部遠離基座的一端匯合。

7.如權利要求1所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，所述高導熱率材料為碳化硅、氮化硅或氮化鋁。

8.如權利要求1所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，所述調溫臂的長度為0.8至1.2倍的拋光墊半徑。

9.如權利要求1所述的拋光溫度調節裝置，其特征在于，所述流體的溫度不高于20℃。

10.一種化學機械拋光設備，其特征在于，包括：

拋光盤，其上粘接有拋光墊；

承載頭，用于吸附晶圓并將晶圓按壓在拋光墊上進行旋轉；

修整器，用于對拋光墊表面進行修整；以及，

如權利要求1至9任一項所述的拋光溫度調節裝置。