[實用新型]一種斜面密封結構及霧化機

有效

• 申請號: 202021649145.1
• 申請日: 2020-08-10
• 公開（公告）號: CN212225984U
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 田雁;王江平
• 申請（專利權）人: 東莞市騰騰電子有限公司
• 主分類號: F16J15/06
• 分類號: F16J15/06;F16J15/10;B05B17/06
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 梁韜

1.一種斜面密封結構，其特征在于，包括：

電極通孔，用于供電極條穿過，使所述電極條的兩端部分別連接對應的電極，所述電極通孔包括固定斜面；

密封件，用于連接并密封所述電極通孔，所述密封件包括密封斜面；

當所述電極通孔處于負壓狀態時，所述密封斜面緊密貼合在所述固定斜面上，將所述電極通孔密封。

2.根據權利要求1所述的斜面密封結構，其特征在于，所述電極通孔包括第一沉孔與第一斜面孔，所述第一沉孔與所述第一斜面孔的一端部接壤，且所述第一沉孔位于所述第一斜面孔的上方；當所述電極通孔處于負壓狀態時，所述密封斜面緊密貼合在所述第一斜面孔上。

3.根據權利要求2所述的斜面密封結構，其特征在于，所述第一斜面孔的另一端部接壤有第二斜面孔，所述第二斜面孔與所述第一斜面孔的傾斜方向相反。

4.根據權利要求2所述的斜面密封結構，其特征在于，所述第一斜面孔的另一端部接壤有第二沉孔，所述第二沉孔的直徑等于所述第一斜面孔與所述第二沉孔接壤處的直徑。

5.根據權利要求1所述的斜面密封結構，其特征在于，所述電極通孔包括第三沉孔與第三斜面孔，所述第三沉孔的一端部與所述第三斜面孔的一端部接壤，且所述第三沉孔位于所述第三斜面孔的下方；當所述電極通孔處于負壓狀態時，所述密封斜面緊密貼合在所述第三斜面孔上。

6.根據權利要求5所述的斜面密封結構，其特征在于，所述第三沉孔的另一端部接壤有第四斜面孔，所述第四斜面孔與所述第三斜面孔的傾斜方向相反。

7.根據權利要求4所述的斜面密封結構，其特征在于，所述密封件還包括連通所述密封斜面的定位柱，所述定位柱卡入所述第二沉孔將所述密封件固定。

8.根據權利要求1所述的斜面密封結構，其特征在于，所述固定斜面與水平方向的傾斜角度為30°-45°，且所述密封斜面與水平方向的傾斜角度小于所述固定斜面與水平方向的傾斜角度。

9.一種霧化機，其特征在于，包括如權利要求1-8中任一項所述的斜面密封結構，所述斜面密封結構包括：

電極通孔，用于供電極條穿過，使所述電極條的兩端部分別連接對應的電極，所述電極通孔設置有固定斜面；

密封件，用于連接并密封所述電極通孔，所述密封件包括密封斜面；

當所述電極通孔處于負壓狀態時，所述密封斜面緊密貼合在所述固定斜面上，將所述電極通孔密封。

10.根據權利要求9所述的霧化機，其特征在于，所述霧化機包括負壓腔與霧化腔，所述負壓腔通過所述電極通孔連通于所述霧化腔；所述電極條穿過所述電極通孔，且所述電極條的兩端部分別連接于所述負壓腔的電路控制板與所述霧化腔的霧化片；所述密封件設于所述霧化腔，當所述負壓腔處于負壓狀態時，所述密封斜面緊密貼合在所述固定斜面上，將所述電極通孔密封。