[實用新型]微波等離子體化學氣相沉積裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021593746.5 | 申請日: | 2020-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN212505057U | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 牛進毅;苗岱 | 申請(專利權)人: | 山西云矽電子科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/44;C23C16/511 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 劉長春 |
| 地址: | 030000 山西省太原市小店區(qū)康寧街康寧大廈(山西國際*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微波 等離子體 化學 沉積 裝置 | ||
1.一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,包括:
波導裝置(100);
反應腔(200),設置在所述波導裝置(100)下方,與所述波導裝置(100)連接;
冷卻罩(300),與所述反應腔(200)連接,用于對所述反應腔(200)進行風冷散熱;
屏蔽罩(400),圍設在所述反應腔(200)外部,以防止所述反應腔(200)內的電磁輻射泄漏;
旋轉升降機構,所述旋轉升降機構與所述反應腔(200)內設置的生長平臺(201)連接,以實現(xiàn)所述生長平臺(201)在所述反應腔(200)內做直線運動和旋轉運動。
2.根據(jù)權利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述冷卻罩(300)包括均風板(301)、引風道(302)、風機(303)和連接管(304),其中,
所述均風板(301)設置在所述屏蔽罩(400)上方;
所述引風道(302)與所述均風板(301)連接;
所述風機(303)通過所述連接管(304)與所述引風道(302)連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述均風板(301)上設置有若干通風孔(3011)。
4.根據(jù)權利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(400)上設置有若干通孔(401)。
5.根據(jù)權利要求4所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述通孔(401)的直徑小于或等于需屏蔽電磁波波長的1/10。
6.根據(jù)權利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述旋轉升降機構包括主軸(500)、升降機構(600)和旋轉機構(700),所述主軸(500)與所述生長平臺(201)連接;
所述升降機構(600)與所述主軸(500)連接,以驅動所述主軸(500)帶動所述生長平臺(201)在所述反應腔(200)內上下移動;
所述旋轉機構(700)與所述主軸(500)連接,以驅動所述主軸(500)帶動所述生長平臺(201)在所述反應腔(200)內做旋轉運動。
7.根據(jù)權利要求6所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述升降機構(600)包括第一伺服電機(601)、第一傳動件以及第一控制器,其中,
所述第一傳動件分別與所述第一伺服電機(601)和所述主軸(500)連接;
所述第一控制器與所述第一伺服電機(601)連接,用于控制所述第一伺服電機(601)驅動所述第一傳動件運動,以使所述主軸(500)帶動所述生長平臺(201)在所述反應腔(200)內上下移動。
8.根據(jù)權利要求6所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述旋轉機構(700)包括第二伺服電機(701)、第二傳動件以及第二控制器,其中,
所述第二傳動件分別與所述第二伺服電機(701)和所述主軸(500)連接;
所述第二控制器與所述第二伺服電機(701)連接,用于控制所述第二伺服電機(701)驅動所述第二傳動件運動,以使所述主軸(500)帶動所述生長平臺(201)在所述反應腔(200)內做旋轉運動。
9.根據(jù)權利要求8所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,還包括冷卻機構(800),所述冷卻機構(800)包括套接在所述主軸(500)外部的水套軸(801),其中,
所述水套軸(801)側面開設有冷卻水進口(8011)和冷卻水出口(8012);
所述主軸(500)內部設置有進水通道(802)和出水通道(803),所述進水通道(802)通過開設在所述主軸(500)上的進水槽(804)與所述冷卻水進口(8011)連接,所述出水通道(803)通過開設在所述主軸(500)上的出水槽(805)與所述冷卻水出口(8012)連接。
10.根據(jù)權利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,還包括抽真空裝置(900),與所述反應腔(200)連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





