[實用新型]一種防打滑的雙面壓花膠膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021504644.1 | 申請日： | 2020-07-27 |
| 公開（公告）號： | CN213546330U | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 喬剛;呂松;黃寶玉;季志超;張剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 常州斯威克光伏新材料有限公司 |
| 主分類號： | H01L31/048 | 分類號： | H01L31/048 |
| 代理公司： | 南京勤行知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32397 | 代理人： | 陳燁 |
| 地址： | 213200 江蘇省常*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 打滑 雙面 壓花 膠膜 | ||
1.一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述膠膜的一面為三角紋與淺磨砂紋組成的復(fù)合壓花結(jié)構(gòu)，三角紋的目數(shù)為5-20目，所述三角紋高度為100-200μm，所述三角紋為三棱錐結(jié)構(gòu)，所述三角紋規(guī)則排列，相鄰的三角紋旋轉(zhuǎn)180°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述淺磨砂紋為不規(guī)則結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述淺磨砂紋的高度為20-50μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述膠膜的另一面為深磨砂紋結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述深磨砂紋為不規(guī)則結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述深磨砂紋花紋高度為50-80μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防打滑雙面壓花膠膜，其特征在于：所述深磨砂紋上間隔布置溝槽結(jié)構(gòu)。
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H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射，或微粒輻射敏感的，并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的，或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件；專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的，一個或多個電光源，如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的，并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
