[實用新型]一種氧化鎵生產用洗滌裝置

有效

• 申請號: 202021308505.1
• 申請日: 2020-07-07
• 公開（公告）號: CN212883861U
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 肖迪
• 申請（專利權）人: 江蘇利瀧半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B13/00
• 代理公司: 南京樂羽知行專利代理事務所(普通合伙) 32326
• 代理人: 李培

本實用新型涉及氧化鎵生產設備技術領域，且公開了一種氧化鎵生產用洗滌裝置，包括洗滌箱，所述洗滌箱底部的四周均固定連接有支撐桿，所述洗滌箱的頂部通過合頁活動連接有封板，所述封板的頂部固定連接有進料口，所述封板的左側固定連接有卡塊，所述洗滌箱左側的頂部鉸接有螺桿，所述螺桿外表面的頂部螺紋連接有螺紋套，所述洗滌箱內腔左右兩端的頂部均活動連接有安裝塊，兩個所述安裝塊相對的一側之間固定連接有導料罩。該氧化鎵生產用洗滌裝置，通過將沉淀物料放置到料箱內，并旋轉料箱，使物料與熱水旋轉，使其快速分散，從而避免其結團，提高了洗滌時的效率，且洗滌效果好，方便使用，適用于各種情況。

技術領域

本實用新型涉及氧化鎵生產設備技術領域，具體為一種氧化鎵生產用洗滌裝置。

背景技術

氧化鎵的別名是三氧化二鎵，一種寬禁帶半導體，其導電性能和發光特性長期以來一直引起人們的注意，其是一種透明的氧化物半導體材料，在光電子器件方面有廣闊的應用前景，被用作于Ga基半導體材料的絕緣層，以及紫外線濾光片。

對于氧化鎵的生產加工工藝大致介紹如下：向三氯化鎵GaCl3的熱水溶液中加NaHCO3的高濃熱水溶液，煮沸到鎵的氫氧化物全部沉淀出來為止，用熱水洗滌沉淀至沒有Cl-為止，在600℃以上煅燒則得到β-Ga2O3，殘留NH4Cl時，在250℃就和Ga2O3反應，生成揮發性GaCl3，在上述工藝中，初步形成沉淀以后，要用熱水對沉淀進行洗滌，目前市面上現有的氧化鎵生產用洗滌裝置存在著不便于使用的缺點，在使用時，由于沉淀容易結團，導致洗滌過程中物料不好分散而洗滌效果不好，且洗滌效率也較為低下，不便于使用，故而提出以上一種氧化鎵生產用洗滌裝置以解決上述問題。

實用新型內容

（一）解決的技術問題

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種氧化鎵生產用洗滌裝置，具備便于使用等優點，解決了在使用時，由于沉淀容易結團，導致洗滌過程中物料不好分散而洗滌效果不好，且洗滌效率也較為低下，不便于使用的問題。

（二）技術方案

為實現上述便于使用的目的，本實用新型提供如下技術方案：一種氧化鎵生產用洗滌裝置，包括洗滌箱，所述洗滌箱底部的四周均固定連接有支撐桿，所述洗滌箱的頂部通過合頁活動連接有封板，所述封板的頂部固定連接有進料口，所述封板的左側固定連接有卡塊，所述洗滌箱左側的頂部鉸接有螺桿，所述螺桿外表面的頂部螺紋連接有螺紋套，所述洗滌箱內腔左右兩端的頂部均活動連接有安裝塊，兩個所述安裝塊相對的一側之間固定連接有導料罩，所述洗滌箱的內部固定連接有隔板，所述洗滌箱右側的頂部固定連接有進水口，所述洗滌箱右側的底部固定連接有驅動電機，所述驅動電機的輸出軸固定連接有轉桿，所述轉桿的左側固定連接有主動錐齒，所述洗滌箱內腔的底部活動連接有轉軸，所述轉軸外表面的底部固定連接有從動錐齒，所述從動錐齒的右側與主動錐齒的頂部相嚙合，所述轉軸的頂部固定連接有料箱，所述料箱的內部固定連接有網板。

優選的，所述卡塊呈側凹形，所述螺桿位于卡塊的內側，所述螺紋套的底部與卡塊的頂部相貼合，所述螺紋套的頂部固定連接有手輪。

優選的，所述導料罩呈漏斗形，所述導料罩底部的內徑小于料箱頂部的內徑，所述料箱的頂部位于導料罩外表面的底部。

優選的，所述洗滌箱內腔左右兩端的頂部均開設有與安裝塊相適配的安裝槽，所述安裝塊的頂部與封板的底部相貼合。

優選的，所述隔板底部的左側連通有一端貫穿并延伸至洗滌箱外部的出水管，且出水管的底部固定連接有控制閥。

優選的，所述料箱的外表面開設有數量為多個的長條孔，所述轉桿的外表面活動連接有支桿，且支桿的底部與洗滌箱內腔的底部固定連接。

（三）有益效果

與現有技術相比，本實用新型提供了一種氧化鎵生產用洗滌裝置，具備以下有益效果：