[實用新型]一種彎月面涂膜設備

有效

• 申請號: 202021305559.2
• 申請日: 2020-07-06
• 公開（公告）號: CN213670185U
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 胡文杰
• 申請（專利權）人: 寧波甬安光科新材料科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02
• 代理公司: 北京沁優知識產權代理有限公司 11684
• 代理人: 方仕杰

本實用新型公開了一種彎月面涂膜設備，包括設備本體，所述設備本體包括膠液供給裝置和安裝平臺，所述安裝平臺上設有涂膜元件吸取機械臂、膠液噴涂裝置和涂膜元件翻轉裝置，所述膠液供給裝置包括低位儲膠盒、供膠泵和可升降供膠盒，所述供膠泵用于將低位儲膠盒內儲存的膠液泵入可升降供膠盒內，所述膠液供給裝置用于向膠液噴涂裝置提供涂膜所需的膠液；所述涂膜元件吸取機械臂用于吸取并固定涂膜元件，所述涂膜元件吸取機械臂包括機械臂固定部和行走機械臂，所述機械臂固定部的下方設有供機械臂固定部水平移動的水平滑軌，所述機械臂固定部上設有豎直滑軌，所述行走機械臂在所述豎直滑軌上豎直移動。本實用新型具有涂膜連續且高效的優點。

技術領域

本實用新型涉及涂膜設備加工制造領域，特別涉及一種彎月面涂膜設備。

背景技術

目前許多大口徑光開關器件、光學鏡頭、光學顯示器等均需要涂制特殊的膜層來改變表面性質，如改變通光率(增透膜或高反膜)、改變耐磨擦性延長材料使用壽命、改變器件表面擴散性能提高器件抗激光性能等，有的需要單面多層膜，有的需要雙面異質膜。在工業上涂制膜層的主要方法目前依然是物理法占主流地位，如磁控濺射法，但是物理法主要缺點就是能耗大，需要在真空環境中進行。而濕化學法恰好克服這一大缺點，低能耗在常壓下就可以施行涂膜，目前有提拉法，但是不能涂制單面膜，連續涂膜在一定基礎上也受設備限制；旋涂法雖能涂制單面膜，但是無法涂制大口徑均勻單面膜，并且無法實現連續涂膜。因此只有彎月面涂膜技術能夠實現這些要求，然而在連續式生產這方面還是受限制，目前還沒有連續式生產高質量涂膜產品的彎月面涂膜設備出現。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種彎月面涂膜設備，具有涂膜連續且高效的優點。

本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：

一種彎月面涂膜設備，包括設備本體，所述設備本體包括膠液供給裝置和安裝平臺，所述安裝平臺上設有涂膜元件吸取機械臂、膠液噴涂裝置和涂膜元件翻轉裝置，所述膠液供給裝置包括低位儲膠盒、供膠泵和可升降供膠盒，所述供膠泵用于將低位儲膠盒內儲存的膠液泵入可升降供膠盒內，所述膠液供給裝置用于向膠液噴涂裝置提供涂膜所需的膠液；所述涂膜元件吸取機械臂用于吸取并固定涂膜元件，所述涂膜元件吸取機械臂包括機械臂固定部和行走機械臂，所述機械臂固定部的下方設有供機械臂固定部水平移動的水平滑軌，所述機械臂固定部上設有豎直滑軌，所述行走機械臂在所述豎直滑軌上豎直移動。

通過采用上述技術方案，供膠泵用于將低位儲膠盒內儲存的膠液泵入可升降供膠盒內，膠液供給裝置用于向膠液噴涂裝置提供涂膜所需的膠液；膠液噴涂裝置用于對涂膜元件進行涂膜操作；涂膜元件吸取機械臂用于吸取固定涂膜元件并且帶動涂膜元件移動；涂膜元件翻轉裝置用于將涂膜元件進行翻面，方便對未涂膜面進行涂膜操作。

本實用新型進一步設置為：所述涂膜元件翻轉裝置包括翻轉吸取裝置，所述翻轉吸取裝置包括翻轉電機，所述翻轉電機設有水平輸出軸，所述水平輸出軸上焊接有吸取平臺，所述吸取平臺上設有若干吸附管，所述吸附管連接有真空泵，所述吸附管的下端設有用于吸取涂膜元件的翻轉吸盤。

通過采用上述技術方案，通過翻轉吸盤對涂膜元件的接觸后，開啟真空泵，翻轉吸盤與涂膜元件之間形成負壓，翻轉吸盤將涂膜元件吸附。然后翻轉電機的水平輸出軸轉動，此時帶動涂膜元件也發生轉動，方便涂膜元件的下片。

本實用新型進一步設置為：所述膠液噴涂裝置包括噴涂底座，所述噴涂底座下方設有高度調平裝置，所述高度調平裝置包括調平滑軌，所述調平滑軌上滑動連接有滑塊，所述滑塊上設有傾斜臺，所述傾斜臺的上表面為傾斜設置的斜面，所述噴涂底座的下表面設有滾輪，所述滾輪與傾斜臺的上表面相抵觸，當滾輪向傾斜臺高處滾動時，所述噴涂底座的高度升高，當滾輪向傾斜臺低處滾動時，所述噴涂底座的高度降低。

通過采用上述技術方案，通過高度調平裝置對噴涂底座進行調平，能夠使得對噴涂底座的調平更為方便和準確，只要推動滑塊在調平滑軌上運動，即可使得傾斜臺相對于滾輪運動，從而使用傾斜臺將噴涂底座抬高或放低。