[實(shí)用新型]基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021303972.5 | 申請日: | 2020-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN212905552U | 公開(公告)日: | 2021-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐亞東;伏洋洋;高雷 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州大學(xué) |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;G02B1/00 |
| 代理公司: | 蘇州三英知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32412 | 代理人: | 周仁青 |
| 地址: | 215001*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 二元 表面 不對稱 電磁波 分離器 | ||
1.一種基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述分離器包括相對設(shè)置的第一超構(gòu)光柵和第二超構(gòu)光柵,第一超構(gòu)光柵和第二超構(gòu)光柵之間具有氣隙,第一超構(gòu)光柵包括若干交替設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)單元和第二結(jié)構(gòu)單元,第一結(jié)構(gòu)單元包括金屬基體及填充于金屬基體內(nèi)的第一介質(zhì)材料,第二結(jié)構(gòu)單元包括金屬基體及填充于金屬基體內(nèi)的第二介質(zhì)材料,第二超構(gòu)光柵包括若干交替設(shè)置的第三結(jié)構(gòu)單元和第四結(jié)構(gòu)單元,第三結(jié)構(gòu)單元包括兩組第一結(jié)構(gòu)單元,第四結(jié)構(gòu)單元包括兩組第二結(jié)構(gòu)單元,第一結(jié)構(gòu)單元和第二結(jié)構(gòu)單元的高度h和寬度a1均相等,相位差為π,第三結(jié)構(gòu)單元和第四結(jié)構(gòu)單元的高度h和寬度a2均相等,相位差為π,且第一超構(gòu)光柵的周期長度p1與第二超構(gòu)光柵的周期長度p2滿足p2=2p1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述分離器滿足:
p1=2a1<λ,p2=2a2>λ,θs=arcsin(λ/p2);
其中,λ為入射電磁波的波長,θs為電磁波的分裂角。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述第一介質(zhì)材料和第二介質(zhì)材料為不同的材料,第一介質(zhì)材料和第二介質(zhì)材料的填充厚度均為h。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述金屬基體材料為Ag,第一介質(zhì)材料為空氣,第二介質(zhì)材料介電常數(shù)和磁導(dǎo)率均為2。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述氣隙厚度Δ滿足Δ≥0.5λ。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述第一超構(gòu)光柵和第二超構(gòu)光柵滿足:Δ=0.5λ,h=0.5λ,
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述λ=650nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述第一介質(zhì)材料和第二介質(zhì)材料為相同的材料,第一介質(zhì)材料和第二介質(zhì)材料的填充厚度分別為d1和d2,且d1<d2。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述氣隙厚度Δ滿足Δ≥λ。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述第一超構(gòu)光柵和第二超構(gòu)光柵滿足:Δ=λ,h=0.75λ,
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基于二元超構(gòu)表面的不對稱電磁波分離器,其特征在于,所述λ=650nm,d1=133nm,d2=406.5nm。
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