[實用新型]一種基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置

有效

• 申請號: 202021242693.2
• 申請日: 2020-06-30
• 公開（公告）號: CN212287960U
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 趙吉賓;喬紅超;曹治赫;張旖諾;于永飛
• 申請（專利權）人: 中國科學院沈陽自動化研究所
• 主分類號: B26F3/00
• 分類號: B26F3/00;B26D5/00
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 汪海

1.一種基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：包括座體、噴嘴(2)和耦合場發生元件(3)，其中座體內設有高壓水腔(1)和水射流通道，且所述水射流通道與所述高壓水腔(1)連通的入水端設有噴嘴(2)，高壓水腔(1)內的高壓水經所述噴嘴(2)后形成水射流(4)射入所述水射流通道中，所述水射流通道的出水端設有耦合場發生元件(3)，且水射流(4)經過耦合場發生元件(3)中的耦合場(6)后射出。

2.根據權利要求1所述的基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：所述座體在耦合場發生元件(3)下側的出口為擴口端。

3.根據權利要求1所述的基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：所述耦合場發生元件(3)材料為導電金屬、合金或導電復合材料。

4.根據權利要求1所述的基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：所述耦合場(6)強度為2.2×10³～2.2×10⁶N/C。

5.根據權利要求1所述的基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：所述高壓水腔(1)內的高壓水壓力值范圍為20MPa～100MPa。

6.根據權利要求1所述的基于耦合場控制的微水流偏轉控制裝置，其特征在于：所述噴嘴(2)以寶石體為載體，噴嘴(2)直徑為50～200μm。