[實用新型]基于單一光源的明場和暗場定向反射光源總成

有效

• 申請號: 202021197388.6
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN212112515U
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 何偉英;王棟;金帥;萬大良;徐易;王毓;王克宇;段堅;黃勤建;陳進
• 申請（專利權）人: 無錫市科德科技有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G03B15/05;G03B15/06
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 顧陽

本實用新型提供了基于單一光源的明場和暗場定向反射光源總成，其可同時滿足實現明場和暗場的定向反射配光要求，提高指紋成像質量；其包括光源、殼體、通光量調節件，所述光源采用單一光源結構，所述光源裝配于所述殼體內，所述通光量調節件設置于所述光源的出光端，且所述通光量調節件與所述光源同軸心設置，位于所述光源與所述通光量調節件之間的所述殼體上開設有插槽，所述插槽用于插裝遮光片，所述遮光片可遮住所述光源中央發光區域。

技術領域

本實用新型涉及法庭科學技術領域，具體為基于單一光源的明場和暗場定向反射光源總成。

背景技術

照相是指紋及其他痕跡物證檢驗工作中的重要環節，若在現場或檢材上發現可見指紋、經過物理或化學法處理后的指紋，都要盡快照相記錄，以防指紋消褪或被意外破壞；配光照相是通過選擇白光光源或其他波長的光源，并通過改變照明光線入射角度和方向來調整控制檢材反射光的亮度分布以增強指紋紋線與客體背景圖案的反差，起到減弱或消除客體背景圖案的干擾，其中，配光照相的方法多樣，最常用的明場照相是定向反射照相，最常用的暗場照相是暗視場照相，而在不同現場中，指紋及其客體的種類和條件各不相同，也需要選擇不同的配光方法才可有效顯現指紋紋線和細節特征，但是不同配光設備往往用途單一，例如，指紋照相中常用的定向反射鏡，就只能做明場的定向反射照相；暗視場配光裝置，就只能做暗視場照相。

然而，對于明場的定向反射照相，通常采用面光源照明，指紋所附著的光滑平面客體表面相當于一面鏡子，其反射的面光源像顯現為明場的淺色背景；而客體上指紋在光源的照射下發出的光屬于漫反射疊加定向反射的混合反射光，具有散射性，進入照相裝置的光線相對較少，表現為比淺色背景亮度低的深色紋線，但由于傳統定向反射鏡所使用的面光源的出光面積不能調整，造成面光源像比指紋像大得多，指紋區域以外的面光源像所對應的那部分面光源發出的光對增加指紋區域以內的面光源像的亮度沒有任何貢獻，但卻能照射到指紋及客體表面下層的背景圖案，增加了指紋紋線和背景圖案的亮度，從而造成指紋紋線與淺色背景的反差減小，指紋成像質量較差，背景圖案也難以減弱或消除；對于指紋的暗視場照相，通常采用點光源照明，入射角為10°～30°，此時光源發出的光經光滑平面客體的反射，進入照相裝置的光線很少，表現為暗場的深色背景，而客體上指紋在光源的照射下發出的光屬于漫反射疊加定向反射的混合反射光，具有散射性，進入照相裝置的光線相對較多，表現為比深色背景亮度高的淺色紋線，具體地，入射角偏小時，顯現的指紋紋線較亮，但常常出現指紋兩側紋線亮度不均、邊緣紋線易受光源的反射亮斑像干擾的情況；入射角偏大時，指紋紋線亮度降低，從而造成指紋紋線與深色背景的反差減小，指紋成像質量較差。

發明內容

針對上述問題，本實用新型提供了基于單一光源的明場和暗場定向反射光源總成，其可同時滿足實現明場和暗場的定向反射配光要求，提高指紋成像質量。

其技術方案是這樣的：基于單一光源的明場和暗場定向反射光源總成，其包括光源，其特征在于：其還包括殼體、通光量調節件，所述光源采用單一光源結構，所述光源裝配于所述殼體內，所述通光量調節件設置于所述光源的出光端，且所述通光量調節件與所述光源同軸心設置，位于所述光源與所述通光量調節件之間的所述殼體上開設有插槽，所述插槽內插裝遮光片，用以遮住所述光源中央發光區域。

進一步地，所述遮光片包括位于中央的遮光區域和位于所述遮光區域周邊的顯示區域；

進一步地，所述光源裝配于所述殼體的內腔，所述通光量調節件設置于位于所述光源出光側的所述殼體的前部開口端；

進一步地，所述通光量調節件采用可調光闌，所述可調光闌的最大通光孔徑不小于所述光源的尺寸；

進一步地，所述殼體內裝有金屬基板，所述金屬基板裝于所述內腔的后部，所述金屬基板上均勻分布有LED燈珠，所述殼體的后部開口端裝有蓋板，所述蓋板上設有與所述LED燈珠電連接的電路接口，所述電路接口連接外部電源和控制器；

進一步地，所述光源包括均光板，所述均光板安裝于所述內腔的前部。