[實(shí)用新型]一種全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021196672.1 | 申請日: | 2020-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN212723574U | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張兵波 | 申請(專利權(quán))人: | 西安優(yōu)我科華視覺科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 王海棟 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市高新區(qū)丈*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 全自動 薄膜 預(yù)壓 | ||
1.一種全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,包括:
預(yù)壓機(jī)主設(shè)備;
COF沖切機(jī),安裝于所述預(yù)壓機(jī)主設(shè)備一側(cè);
所述預(yù)壓機(jī)主設(shè)備內(nèi)包括設(shè)備機(jī)架,以及
八工位吸附轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu),配置于所述COF沖切機(jī)一側(cè)的設(shè)備機(jī)架上;
ACF貼附機(jī)構(gòu),配置于所述八工位吸附轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)一側(cè)的設(shè)備機(jī)架上;
上預(yù)壓機(jī)構(gòu),配置于所述ACF貼附機(jī)構(gòu)一側(cè)的設(shè)備機(jī)架上;
TABLE機(jī)構(gòu),配置于所述上預(yù)壓機(jī)構(gòu)一側(cè)的設(shè)備機(jī)架上;
控制系統(tǒng),配置于設(shè)備機(jī)架上且連接所述COF沖切機(jī)、所述八工位吸附轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)、所述ACF貼附機(jī)構(gòu)、所述上預(yù)壓機(jī)構(gòu)和所述TABLE機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述COF沖切機(jī)包括第一機(jī)架、放料帶機(jī)構(gòu)、料帶導(dǎo)向輪、料帶換卷檢測器、前棘輪、后棘輪、真空puncher、COF檢測器、收料帶機(jī)構(gòu)和回收料帶張緊輪,其中,
所述放料帶機(jī)構(gòu),配置于第一機(jī)架上方;
所述料帶導(dǎo)向輪,配置于所述放料帶機(jī)構(gòu)一側(cè)的第一機(jī)架上;
所述料帶換卷檢測器,配置于所述料帶導(dǎo)向輪上;
所述前棘輪、所述后棘輪,配置于第一機(jī)架上的COF沖切位置的兩側(cè);
所述真空puncher,配置于所述前棘輪、所述后棘輪之間的COF沖切位置處;
所述COF檢測器,配置于所述真空puncher的COF輸出側(cè);
所述收料帶機(jī)構(gòu),配置于與所述放料帶機(jī)構(gòu)相對應(yīng)的第一機(jī)架下方;
所述回收料帶張緊輪,配置于所述收料帶機(jī)構(gòu)一側(cè)的第一機(jī)架上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述前棘輪、所述后棘輪分別為3排棘輪齒結(jié)構(gòu)設(shè)計,每一排所述棘輪齒結(jié)構(gòu)適用三種不同標(biāo)準(zhǔn)的COF料帶寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述八工位吸附轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)包括基座和逆時針依次配置于基座上的COF上料工位、COF對位工位、ACF貼附工位、ACF貼附檢測工位、COF下料工位和COF NG收集工位。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述ACF貼附機(jī)構(gòu)包括第二機(jī)架、ACF供給機(jī)構(gòu)、ACF切刀機(jī)構(gòu)、ACF貼附裝置、ACF貼附檢測機(jī)構(gòu)和ACF回收機(jī)構(gòu),其中,
所述ACF供給機(jī)構(gòu),配置于第二機(jī)架上;
所述ACF切刀機(jī)構(gòu),配置于所述ACF供給機(jī)構(gòu)一側(cè)的第二機(jī)架上;
所述ACF貼附裝置,配置于所述ACF切刀機(jī)構(gòu)一側(cè)的第二機(jī)架上;
所述ACF貼附檢測機(jī)構(gòu),配置于所述ACF貼附裝置一側(cè)的第二機(jī)架上;
所述ACF回收機(jī)構(gòu),配置于所述ACF貼附裝置下方的第二機(jī)架上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述上預(yù)壓機(jī)構(gòu)包括第三機(jī)架、第一上預(yù)壓頭、第二上預(yù)壓頭、第一X軸模組、第一Y軸模組、第一Z軸模組、第一θ軸模組、上預(yù)壓頭吸附系統(tǒng)和上預(yù)壓頭加熱系統(tǒng),其中,
所述第一上預(yù)壓頭、所述第二上預(yù)壓頭,配置于第三機(jī)架上;
所述第一X軸模組,橫向配置于第三機(jī)架上;
所述第一Y軸模組,配置于與所述第一X軸模組垂直的第三機(jī)架上;
所述第一Z軸模組,配置于豎向與所述第一Y軸模組垂直的第三機(jī)架上;
所述第一θ軸模組,配置于所述第一Z軸模組底端的第三機(jī)架上;
所述上預(yù)壓頭加熱系統(tǒng),配置于所述第一θ軸模組下方的第三機(jī)架上;
所述上預(yù)壓頭吸附系統(tǒng),配置于所述第一θ軸模組下方且與所述上預(yù)壓頭加熱系統(tǒng)相鄰的第三機(jī)架上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述第一上預(yù)壓頭、所述第二上預(yù)壓頭吸附的貼附有ACF的COF尺寸相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述第一上預(yù)壓頭、所述第二上預(yù)壓頭吸附的貼附有ACF的COF尺寸不相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動覆晶薄膜預(yù)壓機(jī),其特征在于,所述TABLE機(jī)構(gòu)包括第五機(jī)架、TABLE真空吸盤平臺、第二X軸模組、第二Y軸模組、第二Z軸模組和第二θ軸模組,其中,
所述TABLE真空吸盤平臺,配置于第五機(jī)架上,所述TABLE真空吸盤平臺包括相連接的TABLE真空吸盤擴(kuò)展平臺、TABLE真空吸盤基礎(chǔ)平臺,所述TABLE真空吸盤擴(kuò)展平臺、所述TABLE真空吸盤基礎(chǔ)平臺分別承載不同尺寸的玻璃;
所述第二X軸模組,橫向配置于第五機(jī)架上;
所述第二Y軸模組,配置于與所述第二X軸模組垂直的第五機(jī)架上;
所述第二Z軸模組,配置于豎向與所述第二Y軸模組垂直的第五機(jī)架上;
所述第二θ軸模組,配置于所述TABLE真空吸盤平臺底端的第五機(jī)架上。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





