[實(shí)用新型]物料清潔裝置及物料清潔系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021133230.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213287988U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 褚濤;甘波;李邵華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 貴州振華電子信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究有限公司
• 主分類號(hào): B08B7/02
• 分類號(hào): B08B7/02;B08B15/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 唐正瑜

1.一種物料清潔裝置，其特征在于，所述裝置包括：

梭料滑槽及清潔機(jī)構(gòu)，所述清潔機(jī)構(gòu)與所述梭料滑槽的出口連接，用于對(duì)從所述梭料滑槽的出口滑出的待清潔物料進(jìn)行清潔，并收集從所述待清潔物料表面去除的附著物；

所述梭料滑槽設(shè)置有調(diào)節(jié)擋板，所述調(diào)節(jié)擋板與所述梭料滑槽形成用于供所述待清潔物料滑行的滑道，所述調(diào)節(jié)擋板用于調(diào)節(jié)所述梭料滑槽中的滑道的寬度，所述梭料滑槽的槽底設(shè)置有口徑小于所述待清潔物料的尺寸的第一通孔，用于在所述待清潔物料在所述滑道滑行的過(guò)程中濾除所述待清潔物料表面上的至少部分附著物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)包括負(fù)壓吸粉組件，用于吸取所述待清潔物料表面上的至少部分附著物。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)還包括設(shè)置在所述負(fù)壓吸粉組件的管道上的負(fù)壓調(diào)節(jié)閥。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)包括升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)的升降臺(tái)與所述負(fù)壓吸粉組件的負(fù)壓吸頭連接，用于通過(guò)移動(dòng)所述升降臺(tái)的高度以調(diào)節(jié)所述負(fù)壓吸頭的高度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)包括振動(dòng)組件，用于通過(guò)產(chǎn)生振動(dòng)去除所述待清潔物料表面上的至少部分附著物。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述振動(dòng)組件包括振動(dòng)槽及振動(dòng)電機(jī)，所述振動(dòng)槽的一端與所述梭料滑槽的出口連接，所述振動(dòng)電機(jī)與所述振動(dòng)槽連接，用于帶動(dòng)所述振動(dòng)槽振動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)還包括容器，所述振動(dòng)槽的槽底開(kāi)設(shè)有口徑小于所述待清潔物料的尺寸的第二通孔，所述容器設(shè)置于所述振動(dòng)槽的底部，且所述容器的開(kāi)口部位與所述振動(dòng)槽的槽底設(shè)置所述第二通孔的部位接觸，用于收集從所述第二通孔掉落的所述待清潔物料表面上的至少部分附著物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)清潔刷。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括用于帶動(dòng)所述調(diào)節(jié)擋板調(diào)節(jié)所述梭料滑槽中的滑道的寬度的電機(jī)，所述電機(jī)與所述調(diào)節(jié)擋板傳動(dòng)連接。

10.一種物料清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述物料清潔系統(tǒng)包括送料裝置及如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的物料清潔裝置，所述送料裝置的出料口用于與所述物料清潔裝置中的梭料滑槽連接，用于將待清潔物料投入所述梭料滑槽。