[實(shí)用新型]一種溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021122609.3 | 申請(qǐng)日： | 2020-06-17 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN212655527U | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-03-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 許顯光;劉澍;田鳳蘭 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 內(nèi)蒙古弘牧晟科技股份有限公司;天津云智加科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C02F1/46 | 分類號(hào)： | C02F1/46 |
| 代理公司： | 北京開(kāi)陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11710 | 代理人： | 樊曉敏 |
| 地址： | 011500 內(nèi)蒙古自治區(qū)呼和浩特市和林格*** | 國(guó)省代碼： | 內(nèi)蒙古;15 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 溢流 電化學(xué) 水處理設(shè)備 | ||
1.一種溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，包括箱體(11)、安裝在所述箱體(11)內(nèi)部的陰極板(121)及陽(yáng)極板(122)、與所述箱體(11)連通的進(jìn)水管(131)；
其特征在于：所述箱體(11)頂部敞開(kāi)，所述水處理設(shè)備還包括與所述箱體(11)連通的出水槽(132)，所述箱體(11)內(nèi)部下側(cè)安裝有所述進(jìn)水管(131)，所述箱體(11)上側(cè)安裝有所述出水槽(132)；
所述箱體(11)內(nèi)部位于所述進(jìn)水管(131)上方設(shè)置有多個(gè)與所述進(jìn)水管(131)連通的反應(yīng)室，每個(gè)所述反應(yīng)室間錯(cuò)且豎直安裝有至少一塊陰極板(121)及至少一塊陽(yáng)極板(122)；
待處理水體從進(jìn)水管(131)進(jìn)入箱體(11)后以上升流形式溢流入各個(gè)反應(yīng)室進(jìn)行電化學(xué)處理，之后繼續(xù)向上溢流直至從所述出水槽(132)排出所述箱體(11)外。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：在所述進(jìn)水管(131)上開(kāi)設(shè)有與各個(gè)所述反應(yīng)室一一對(duì)應(yīng)并與所對(duì)應(yīng)反應(yīng)室相連通的通水孔(1311)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述進(jìn)水管(131)的一端為供待處理水體進(jìn)入的進(jìn)水端，各個(gè)所述通水孔(1311)的孔徑從所述進(jìn)水管(131)的進(jìn)水端至其另一端逐漸增大。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備具有多根所述出水槽(132)，多根所述出水槽(132)并排且等間距設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備還包括除垢機(jī)構(gòu)(14)，所述除垢機(jī)構(gòu)(14)包括電機(jī)(141)、減速機(jī)、刮刀(142)，所述電機(jī)(141)能夠通過(guò)所述減速機(jī)驅(qū)動(dòng)所述刮刀(142)運(yùn)動(dòng)，所述刮刀(142)在運(yùn)動(dòng)時(shí)能夠?qū)⒏街谒鲫帢O板(121)表面上的結(jié)垢刮除。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備還包括供被刮除的水垢沉積的積垢斗(15)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備還包括安裝在所述積垢斗(15)上的氣泵(151)，所述氣泵(151)能夠向沉積到所述積垢斗(15)中的水垢輸送壓力氣體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備還包括與所述積垢斗(15)連通的排垢管(16)，沉積到所述積垢斗(15)中的水垢能夠通過(guò)所述排垢管(16)排出所述箱體(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的溢流式電化學(xué)水處理設(shè)備，其特征在于：所述電化學(xué)水處理設(shè)備還包括設(shè)置在所述箱體(11)內(nèi)部位于所述反應(yīng)室上方的三相分離器(17)，水流流經(jīng)反應(yīng)室后繼續(xù)上升經(jīng)過(guò)所述三相分離器(17)，所述三相分離器(17)能夠?qū)⑸仙髦械墓腆w及反應(yīng)時(shí)生成的氣體進(jìn)行分離，被分離出來(lái)的固體向所述箱體(11)下部沉積，被分離出來(lái)的氣體被排至所述箱體(11)外。
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