[實用新型]一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構

有效

• 申請號: 202021121704.1
• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN212494073U
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 王作義;馬洪文;魏關成;高萬智;楊虎;陳小鐸
• 申請（專利權）人: 廣奕電子科技（寧波）有限公司
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京衛智暢科專利代理事務所(普通合伙) 11557
• 代理人: 陳佳

1.一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構，包括工作臺(1)，其特征在于：所述工作臺(1)的頂部固定連接有放置臺(2)，所述放置臺(2)頂部的中軸處開設有下料孔(3)，所述工作臺(1)頂部的前側固定連接有殼體一(4)，所述殼體一(4)內腔的右側設置有移動機構(5)，所述工作臺(1)頂部的后側固定連接有殼體二(6)，所述殼體二(6)內腔的兩側均設置有限位機構(7)，所述工作臺(1)的前側開設有放置槽(8)，所述放置槽(8)的內腔設置有收集機構(9)，所述放置槽(8)內腔的兩側均設置有取出機構(10)。

2.根據權利要求1所述的一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構，其特征在于：所述移動機構(5)包含有固定于殼體一(4)內腔右側的電機(51)，所述電機(51)的輸出軸傳動連接有雙向螺紋桿(52)，所述雙向螺紋桿(52)的左端通過軸承與殼體一(4)活動連接，所述雙向螺紋桿(52)的表面設置有相反的螺紋，所述雙向螺紋桿(52)表面的兩側均螺紋連接有螺紋套(53)，所述螺紋套(53)的后側固定連接有清掃桿(54)，所述清掃桿(54)的后端貫穿至殼體一(4)的后側。

3.根據權利要求2所述的一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構，其特征在于：所述限位機構(7)包含有滑動連接于殼體二(6)內腔兩側的滑塊(71)，所述滑塊(71)的前側與清掃桿(54)固定連接，所述殼體二(6)的前側開設有活動孔(72)，所述活動孔(72)的內壁與清掃桿(54)滑動連接。

4.根據權利要求1所述的一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構，其特征在于：所述收集機構(9)包含有活動連接于放置槽(8)內腔的收集箱(91)，所述放置槽(8)內腔的頂部開設有通料孔(92)，所述通料孔(92)的頂部與下料孔(3)相適配。

5.根據權利要求4所述的一種薄膜刻蝕機的臺面清理機構，其特征在于：所述取出機構(10)包含有固定于放置槽(8)內腔兩側的固定架一(101)，所述收集箱(91)的兩側均固定連接有固定架二(102)，所述固定架二(102)的內側與固定架一(101)滑動連接。