[實用新型]一種負電位氫離子水的制備裝置

有效

• 申請號: 202021109060.4
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN212864416U
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 陳木成
• 申請（專利權）人: 恒力（廈門）石墨烯科技產業集團有限公司
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 吳玉芳

1.一種負電位氫離子水的制備裝置，包括第一水箱(2)，其特征在于：所述第一水箱(2)的一端固定連接有進水口(1)，所述第一水箱(2)的內部設置有第一過濾層(3)，所述第一過濾層(3)上方設置有吸附層(4)，所述吸附層(4)上方設置有超吸附層(5)，所述第一水箱(2)的頂部設置有第一連接管(16)和第二連接管(18)，所述第一連接管(16)連接第二水箱(6)，所述第二水箱(6)底部設有超聲設備(7)，所述超聲設備(7)上方設置有超聲槽(8)，所述超聲槽(8)上方設有第二過濾層(9)，所述第二過濾層(9)上方設置有超過濾層(10)，所述第二水箱(6)頂部設置有第三連接管(15)，所述第三連接管(15)內部設置有第一控制開關(11)，所述第三連接管(15)連接第三水箱(14)，所述第三水箱(14)底部設置有第一電位感應裝置(12)以及陰離子過濾膜(13)，所述第三水箱(14)設置有第四連接管(17)，所述第四連接管(17)內部設置有第二控制開關(20)，所述第四連接管(17)連接第四水箱(22)，所述第二連接管(18)一端連接第三水箱(14)、另一端連接第五連接管(19)，所述第五連接管(19)內部設置有第三控制開關(21)，所述第五連接管(19)連接第四水箱(22)，所述第四水箱(22)底部設置有第二電位感應裝置(25)，所述第四水箱(22)設置有出水口(23)，所述第一控制開關(11)、第二控制開關(20)、第三控制開關(21)、第一電位感應裝置(12)、第二電位感應裝置(25)、超聲設備(7)連接到控制系統(24)。

2.根據權利要求1所述的一種負電位氫離子水的制備裝置，其特征在于：所述進水口(1)進水為純凈水。

3.根據權利要求1所述的一種負電位氫離子水的制備裝置，其特征在于：所述第一電位感應裝置(12)與第一控制開關(11)、超聲設備(7)相對應。

4.根據權利要求1所述的一種負電位氫離子水的制備裝置，其特征在于：所述第二電位感應裝置(25)與第二控制開關(20)、第三控制開關(21)相對應。