[實用新型]一種經(jīng)時擊穿測試結構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202021108276.9
• 申請日: 2020-06-15
• 公開（公告）號: CN212570930U
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設計）人: 王志強
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 柳虹

1.一種經(jīng)時擊穿測試結構，其特征在于，用于測試不同溫度下金屬間介質(zhì)層的經(jīng)時擊穿參數(shù)，包括：測試模塊和加熱模塊；

所述測試模塊位于所述加熱模塊上；所述加熱模塊用于對所述測試模塊加熱；

所述測試模塊的第一端連接第一電壓，所述測試模塊的第二端連接第二電壓，所述第一電壓大于所述第二電壓；

所述測試模塊，用于測試所述金屬間介質(zhì)層的經(jīng)時擊穿參數(shù)。

2.根據(jù)權利要求1所述的結構，其特征在于，所述測試結構至少包括第一金屬和第二金屬，所述第一金屬和所述第二金屬相互平行相對設置；

則所述測試結構的第一端連接第一電壓，所述測試結構的第二端連接第二電壓具體為：

所述第一金屬連接第一電壓，所述第二金屬連接第二電壓，所述第二金屬用于獲取所述測試結構的溫度。

3.根據(jù)權利要求2所述的結構，其特征在于，所述第一金屬包括第一襯墊和至少一個第一金屬層，每個所述第一金屬層均平行相對且與所述第一襯墊垂直連接；

所述第二金屬包括第二襯墊和至少兩個第二金屬層，每個所述第二金屬層均平行相對且通過所述第二襯墊串聯(lián)連接；

所述第一金屬和所述第二金屬平行相對具體為：

所述第一襯墊與所述第二襯墊平行相對，每個所述第一金屬層平行鑲嵌于對應的兩個所述第二金屬層中。

4.根據(jù)權利要求3所述的結構，其特征在于，所述測試結構包括第三金屬；所述第三金屬與所述第一金屬和所述第二金屬相互平行相對設置，且所述第二金屬位于所述第一金屬和所述第三金屬之間；

則所述測試結構的第一端連接第一電壓，所述測試結構的第二端連接第二電壓具體為：

所述第一金屬和所述第三金屬均連接所述第一電壓，所述第二金屬連接所述第二電壓。

5.根據(jù)權利要求4所述的結構，其特征在于，所述第三金屬包括第三襯墊和至少一個第三金屬層，每個所述第三金屬層均平行相對且與所述第三襯墊垂直連接；

所述第三金屬與所述第一金屬和所述第二金屬相互平行相對設置，且所述第二金屬位于所述第一金屬和所述第三金屬之間，具體為：

所述第三襯墊與所述第一襯墊和所述第二襯墊平行相對，每個所述第三金屬層與對應的所述第一金屬層和所述第二金屬層平行鑲嵌，所述第二金屬層位于所述第一金屬層和所述第三金屬層之間。

6.根據(jù)權利要求5所述的結構，其特征在于，所述測試結構的第一端連接第一電壓，所述測試結構的第二端連接第二電壓，包括：

所述第一襯墊與所述第三襯墊均連接所述第一電壓，所述第二襯墊連接所述第二電壓。

7.根據(jù)權利要求1-6任意一項所述的結構，其特征在于，所述加熱模塊為電阻。

8.根據(jù)權利要求7所述的結構，其特征在于，所述電阻為多晶硅網(wǎng)格電阻。

9.根據(jù)權利要求1-6中任意一項所述的結構，其特征在于，所述加熱模塊的面積大于所述測試模塊的面積。

10.根據(jù)權利要求1-6中任意一項所述的結構，其特征在于，所述測試結構位于晶圓的切割道中。