[實用新型]一種真空鍍膜用置物架有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021089785.1 | 申請日: | 2020-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN212451616U | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 朱愛軍;朱一兵 | 申請(專利權)人: | 太倉偉林五金制品有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 蘇州言思嘉信專利代理事務所(普通合伙) 32385 | 代理人: | 劉巍 |
| 地址: | 215400 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空鍍膜 用置物架 | ||
1.一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:包括底盤(1),所述底盤(1)上端設置有支架基體(2),所述支架基體(2)上端設置有載物盤(3),所述載物盤(3)下端設置有下盤(31),所述載物盤(3)上端設置有上盤(32),所述支架基體(2)頂端設置有水平載物盤(4),所述底盤(1)上表面設置有第一電機(5),所述第一電機(5)軸端設置有減速器(6),所述減速器(6)遠離第一電機(5)的一端設置有支撐柱(8),所述支撐柱(8)靠近減速器(6)的一端表面設置有聯接環(huán)(7),所述聯接環(huán)(7)外壁設置有固定桿(9),所述固定桿(9)遠離聯接環(huán)(7)的一端設置有聯接柱(10),所述底盤(1)左側設置有臺階(11),所述聯接柱(10)內部設置有第二電機(12),所述第二電機(12)遠離固定桿(9)的一端設置有轉軸(13),所述上盤(32)內部設置有安裝腔(14),所述安裝腔(14)內設置有料盤(15)。
2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述水平載物盤(4)外徑尺寸與載物盤(3)外徑尺寸相同,所述水平載物盤(4)與支撐柱(8)固定連接,所述水平載物盤(4)與支架基體(2)固定連接,所述載物盤(3)形狀為圓形,所述載物盤(3)數量為六組,呈圓錐形等高排列,所述水平載物盤(4)與載物盤(3)構成圓錐臺形。
3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述下盤(31)兩側與支架基體(2)固定連接,所述下盤(31)與聯接柱(10)固定連接,所述轉軸(13)貫穿下盤(31)與上盤(32)連接,所述上盤(32)外徑尺寸與下盤(31)外徑尺寸相同,所述上盤(32)與轉軸(13)固定連接,所述上盤(32)通過轉軸(13)與第二電機(12)轉動連接。
4.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述上盤(32)內部設置有安裝腔(14),所述料盤(15)寬度尺寸與安裝腔(14)寬度尺寸相匹配,所述料盤(15)與安裝腔(14)套接,所述上盤(32)與料盤(15)通過安裝腔(14)套接,所述安裝腔(14)與料盤(15)數量均為若干組,呈圓周等距排布。
5.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述固定桿(9)呈彎曲形,所述固定桿(9)一端與聯接環(huán)(7)固定連接,所述固定桿(9)另一端與聯接柱(10)固定連接,所述載物盤(3)通過固定桿(9)與支撐柱(8)轉動連接。
6.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述聯接環(huán)(7)內徑尺寸與支撐柱(8)外徑尺寸相同,所述聯接環(huán)(7)與支撐柱(8)固定連接,所述支撐柱(8)與第一電機(5)通過減速器(6)固定連接,所述第一電機(5)固定于底盤(1)上表面。
7.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜用置物架,其特征在于:所述底盤(1)外徑尺寸與水平載物盤(4)外徑尺寸相匹配,所述臺階(11)上端與水平載物盤(4)固定連接,所述臺階(11)下端與底盤(1)固定連接,所述臺階(11)呈一定角度傾斜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于太倉偉林五金制品有限公司,未經太倉偉林五金制品有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202021089785.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種真空鍍膜快速成型裝置
- 下一篇:一種玻璃包裝箱
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





