[實(shí)用新型]鍍膜裝置以及鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021076645.0
• 申請(qǐng)日: 2020-06-12
• 公開（公告）號(hào): CN211112215U
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李時(shí)俊;余仲;陳麒麟;盧賢政
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/54
• 分類號(hào): C23C16/54;C23C16/24;C23C16/458;H01L31/18
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 林明校

1.鍍膜裝置，可用于在熱絲化學(xué)氣相沉積法中對(duì)基板進(jìn)行鍍膜，設(shè)有用于對(duì)基板進(jìn)行鍍膜的鍍膜腔，其特征在于，所述鍍膜腔內(nèi)間隔地設(shè)置有三個(gè)以上具有第一熱絲的鍍膜部，各相鄰的兩個(gè)所述鍍膜部之間，分別容許單塊所述基板流過，且相鄰的兩個(gè)鍍膜部設(shè)置為分別對(duì)流過它們之間的所述基板的與其相對(duì)的一面進(jìn)行鍍膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，每一個(gè)所述鍍膜部分別包括多組所述第一熱絲。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜裝置，其特征在于，各所述鍍膜部的所述第一熱絲，設(shè)置為可同時(shí)對(duì)流過其兩側(cè)的所述基板的與其相對(duì)的一面進(jìn)行鍍膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜部沿水平方向或者豎直方向間隔設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于，多組所述第一熱絲分別沿所述基板的傳輸方向分布。

6.鍍膜設(shè)備，用于對(duì)基板進(jìn)行鍍膜，其特征在于，包括：至少一個(gè)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的鍍膜裝置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜裝置包括多個(gè)，多個(gè)所述鍍膜裝置沿所述基板的傳輸方向，依次連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，還包括第一鍍膜組件，所述第一鍍膜組件和所述鍍膜裝置連接，所述第一鍍膜組件具有用于對(duì)所述基板進(jìn)行鍍膜的第一鍍膜空間，所述第一鍍膜空間內(nèi)設(shè)置有一個(gè)第一鍍膜源，所述第一鍍膜源設(shè)置為對(duì)流過其兩側(cè)的兩塊所述基板的與其相對(duì)的一面進(jìn)行鍍膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，還包括第二鍍膜組件，所述第二鍍膜組件和所述鍍膜裝置連接，所述第二鍍膜組件具有用于對(duì)所述基板進(jìn)行鍍膜的第二鍍膜空間，所述第二鍍膜空間內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)第二鍍膜源，相鄰的兩個(gè)所述第二鍍膜源之間，設(shè)置為容許并排的兩塊所述基板流過，兩個(gè)所述第二鍍膜源設(shè)置為分別對(duì)與其相鄰的所述基板的一面進(jìn)行鍍膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，還具有多個(gè)隔離部，所述隔離部使所述鍍膜腔被隔離。