[實(shí)用新型]一種具有單腔清洗裝置的減薄設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021058152.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212497178U | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 路新春;趙德文;劉遠(yuǎn)航;李長(zhǎng)坤;王同慶;許振杰;王劍;肖瑩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華海清科股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B37/10 | 分類號(hào): | B24B37/10;B24B37/34;B24B7/20;H01L21/67;B08B3/02;B08B1/04 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 300350 天津市津*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 清洗 裝置 設(shè)備 | ||
1.一種具有單腔清洗裝置的減薄設(shè)備,其特征在于,包括:
設(shè)備前端模塊、磨削模塊、和拋光模塊;
所述拋光模塊包括用于對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光后的基板進(jìn)行后處理的清洗干燥一體的單腔清洗裝置,所述單腔清洗裝置包括:
用于保持并旋轉(zhuǎn)基板的承載部;
向所述基板噴射流體的流體供給部;
圍繞所述承載部布置的用于阻擋飛濺流體的擋板部;以及
封閉的流體收集腔,其中,所述承載部、所述流體供給部和所述擋板部均設(shè)在所述流體收集腔內(nèi),所述單腔清洗裝置具有豎直的側(cè)壁,所述側(cè)壁配置有用于基板進(jìn)出所述單腔清洗裝置的可以打開或閉合的開合窗口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減薄設(shè)備,其特征在于,
所述設(shè)備前端模塊包括用于取出基板的第一傳輸單元;
所述拋光模塊還包括化學(xué)機(jī)械拋光單元、第二傳輸單元和第三傳輸單元;
所述單腔清洗裝置設(shè)置在所述化學(xué)機(jī)械拋光單元和所述設(shè)備前端模塊之間并且分別與所述第一傳輸單元、所述第三傳輸單元和所述化學(xué)機(jī)械拋光單元相鄰。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述單腔清洗裝置的面對(duì)所述第一傳輸單元的側(cè)面設(shè)有第一開合窗口以便于所述第一傳輸單元向所述單腔清洗裝置取放基板,所述單腔清洗裝置的面對(duì)所述第三傳輸單元的側(cè)面設(shè)有第二開合窗口以便于所述第三傳輸單元向所述單腔清洗裝置取放基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述擋板部包括至少兩個(gè)同心間隔設(shè)置的環(huán)形擋板和用于控制所述環(huán)形擋板獨(dú)立升降的擋板升降單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述流體供給部包括至少一個(gè)上表面噴淋組件和至少一個(gè)下表面噴淋組件;
所述上表面噴淋組件和所述下表面噴淋組件為結(jié)構(gòu)相同的噴淋組件,所述噴淋組件包括噴嘴、機(jī)械臂和供流管路,所述供流管路與所述噴嘴接通,所述機(jī)械臂與所述噴嘴連接以帶動(dòng)所述噴嘴移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述第二傳輸單元包括能雙向移動(dòng)的移動(dòng)緩存部,所述移動(dòng)緩存部能夠?qū)⑺龌鍙目拷鲈O(shè)備前端模塊的第一位置運(yùn)送至靠近所述磨削模塊的第二位置并從所述第二位置運(yùn)送回所述第一位置;
其中,所述移動(dòng)緩存部與所述化學(xué)機(jī)械拋光單元沿設(shè)備長(zhǎng)度方向平行布置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述第三傳輸單元包括用于將基板放置至所述移動(dòng)緩存部的干機(jī)械手和用于從所述移動(dòng)緩存部拿取基板的濕機(jī)械手,所述干機(jī)械手和濕機(jī)械手布置在同一機(jī)械手基座上并且能夠圍繞所述機(jī)械手基座旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述干機(jī)械手在將基板放置至所述移動(dòng)緩存部的過(guò)程中與所述移動(dòng)緩存部沿豎直方向具有間隔。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述第一傳輸單元包括取放片機(jī)械手和第一傳輸軌道,所述取放片機(jī)械手具有基座和能在所述基座上旋轉(zhuǎn)的能伸展或收縮的機(jī)械臂,所述基座以能滑動(dòng)的方式設(shè)置在所述第一傳輸軌道上。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減薄設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備前端模塊還包括基板存儲(chǔ)單元,所述基板存儲(chǔ)單元設(shè)置在所述減薄設(shè)備的前端一側(cè)并且包括多個(gè)前開式基板傳送盒,所述前開式基板傳送盒分別包括能容納基板的前開式容器以及前開式門結(jié)構(gòu),所述前開式門結(jié)構(gòu)氣密連接于減薄設(shè)備的外壁上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華海清科股份有限公司,未經(jīng)華海清科股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202021058152.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





