[實(shí)用新型]一種數(shù)控?cái)[動(dòng)式勻質(zhì)浸外釉機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021040322.6
• 申請(qǐng)日: 2020-06-09
• 公開（公告）號(hào): CN212504627U
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳國彬;張日平;江建群;范鵬凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西省康舒陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/86
• 分類號(hào): C04B41/86
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型公開了一種數(shù)控?cái)[動(dòng)式勻質(zhì)浸外釉機(jī)，包括底座，所述底座頂部的左側(cè)固定連接有機(jī)箱，所述機(jī)箱的頂部固定連接有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸固定連接有螺紋桿，所述螺紋桿的表面套設(shè)有螺紋套，所述螺紋套的左側(cè)設(shè)置有限位機(jī)構(gòu)，所述螺紋套的右側(cè)通過安裝板固定連接有箱體。本實(shí)用新型通過旋轉(zhuǎn)電機(jī)、轉(zhuǎn)桿、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、蝸桿、蝸輪、轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)盤的配合，將陶瓷放置在轉(zhuǎn)盤，旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸通過轉(zhuǎn)桿帶動(dòng)第一錐齒輪旋轉(zhuǎn)，第一錐齒輪通過第二錐齒輪和蝸桿帶動(dòng)蝸輪旋轉(zhuǎn)，蝸輪通過轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，對(duì)陶瓷表面均勻上釉，保障浸釉品質(zhì)，從而達(dá)到上釉均勻的效果，解決了現(xiàn)有裝置上釉不均勻的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種數(shù)控?cái)[動(dòng)式勻質(zhì)浸外釉機(jī)。

背景技術(shù)

陶瓷是人們?nèi)粘Ｉ钪谐Ｒ姷纳钣闷罚锰胀翢频钠髅蠼刑掌鳎么赏翢频钠髅蠼写善鳎沾蓜t是陶器，炻器和瓷器的總稱，古人稱陶瓷為甌，凡是用陶土和瓷土這兩種不同性質(zhì)的粘土為原料，經(jīng)過配料、成型、上釉、干燥、焙燒等工藝流程制成的器物都可以叫陶瓷，其中傳統(tǒng)的坯體上釉是通過人手持坯體，浸入裝有釉水的浸釉筒內(nèi)，從而在坯體外表面形成釉水層，傳統(tǒng)人工浸釉的坯體外表面釉水很難均勻，導(dǎo)致燒制而成的釉面不平，品控難以把握，對(duì)工人工藝和經(jīng)驗(yàn)要求很高，直接導(dǎo)致成本提高和生產(chǎn)效率降低，為此，市面上出現(xiàn)了一些自動(dòng)外浸釉裝置，能夠代替人工實(shí)現(xiàn)坯體上釉，但是現(xiàn)有的自動(dòng)外浸釉裝置通常具有三軸位移控制，裝置復(fù)雜，成本較高，且浸釉的過程為直上直下的方式，上釉速度較慢，上釉不夠均勻，影響浸釉品質(zhì)。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種數(shù)控?cái)[動(dòng)式勻質(zhì)浸外釉機(jī)，具備上釉均勻的優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有裝置上釉不均勻的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種數(shù)控?cái)[動(dòng)式勻質(zhì)浸外釉機(jī)，包括底座，所述底座頂部的左側(cè)固定連接有機(jī)箱，所述機(jī)箱的頂部固定連接有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸固定連接有螺紋桿，所述螺紋桿的表面套設(shè)有螺紋套，所述螺紋套的左側(cè)設(shè)置有限位機(jī)構(gòu)，所述螺紋套的右側(cè)通過安裝板固定連接有箱體，所述箱體的頂部固定連接有旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸固定連接有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿的表面固定連接有傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的軸心處固定連接有蝸桿，所述蝸桿的表面嚙合有蝸輪，所述蝸輪的軸心處固定連接有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸的頂部固定連接有轉(zhuǎn)盤，所述箱體右側(cè)的底部固定連接有放置箱，所述底座的頂部設(shè)置有釉槽。

優(yōu)選的，所述限位機(jī)構(gòu)包括限位塊和限位槽，所述螺紋套的左側(cè)固定連接有限位塊，所述限位塊的左側(cè)滑動(dòng)連接有限位槽，所述限位槽設(shè)置在機(jī)箱內(nèi)腔的左側(cè)。

優(yōu)選的，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一錐齒輪和第二錐齒輪，所述轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)桿的表面固定連接有第一錐齒輪，所述第一錐齒輪的表面嚙合有第二錐齒輪。

優(yōu)選的，所述螺紋桿的底部通過軸承座與機(jī)箱內(nèi)腔的底部活動(dòng)連接，所述蝸桿的左右兩側(cè)均通過軸承座與放置箱內(nèi)腔的左右兩側(cè)活動(dòng)連接。

優(yōu)選的，所述釉槽內(nèi)腔的右側(cè)設(shè)置有凹槽，且凹槽的內(nèi)腔固定連接有液壓伸縮桿，所述液壓伸縮桿的左側(cè)固定連接有毛刷。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果如下：

1、本實(shí)用新型通過旋轉(zhuǎn)電機(jī)、轉(zhuǎn)桿、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、蝸桿、蝸輪、轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)盤的配合，將陶瓷放置在轉(zhuǎn)盤，旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸通過轉(zhuǎn)桿帶動(dòng)第一錐齒輪旋轉(zhuǎn)，第一錐齒輪通過第二錐齒輪和蝸桿帶動(dòng)蝸輪旋轉(zhuǎn)，蝸輪通過轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，對(duì)陶瓷表面均勻上釉，保障浸釉品質(zhì)，從而達(dá)到上釉均勻的效果，解決了現(xiàn)有裝置上釉不均勻的問題。

2、本實(shí)用新型通過限位塊和限位槽的配合，便于對(duì)螺紋套進(jìn)行限位，提高裝置的安全性，通過液壓伸縮桿和毛刷的配合，通過外設(shè)控制器精準(zhǔn)控制液壓伸縮桿的伸出量，使毛刷與陶瓷的表面接觸，進(jìn)而保證陶瓷表面均勻上釉。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型箱體結(jié)構(gòu)主視剖面圖；