[實用新型]一種水合負氧離子產生裝置

有效

• 申請號: 202021025228.3
• 申請日: 2020-06-05
• 公開（公告）號: CN213243114U
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 陳德強;霍彥強;周佳杰;劉世宇;鄭軍妹
• 申請（專利權）人: 寧波方太廚具有限公司
• 主分類號: H01T23/00
• 分類號: H01T23/00;F24F3/16
• 代理公司: 寧波誠源專利事務所有限公司 33102
• 代理人: 徐雪波;張群

1.一種水合負氧離子產生裝置，包括基座(1)、負離子針(2)及能產生水霧的水霧發生組件(3)，所述基座(1)內部中空形成離子發生腔(10)，所述負離子針(2)設于離子發生腔(10)中，所述水霧發生組件(3)的輸出端口(30)與離子發生腔(10)相連通，其特征在于：所述基座(1)側壁的至少局部自下而上逐漸向外傾斜，所述基座傾斜的側壁(11)上開有供空氣進入離子發生腔(10)中的輸入口(12)，所述基座(1)底壁上開有供水霧輸入離子發生腔(10)中的開口(13)，所述基座(1)頂部開有供水合負氧離子輸出的輸出口(14)。

2.根據權利要求1所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述水霧發生組件(3)的上部對應開口(13)布置，所述基座(1)的底壁自外邊緣向開口(13)處逐漸向下傾斜形成能將冷凝水向下引導從而回流至水霧發生組件(3)中的導流面(15)。

3.根據權利要求2所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述基座(1)底壁上自開口(13)邊緣向下延伸形成裝配套(16)，且該裝配套(16)與導流面(15)之間通過平滑過渡的導流弧面(151)相銜接，所述水霧發生組件(3)的上部自下而上伸入裝配套(16)中。

4.根據權利要求3所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述輸出端口(30)位于水霧發生組件(3)的頂部，該輸出端口(30)對應開口(13)布置，所述水霧發生組件(3)上部的側壁上設置有供裝配套(16)中的冷凝水回流至水霧發生組件(3)中的回流結構。

5.根據權利要求4所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述水霧發生組件(3)包括水箱(31)、超聲波霧化片(32)及吸水件(33)，所述水箱(31)脫卸式設于基座(1)下方，所述超聲波霧化片(32)位于裝配套(16)頂部且通過吸水件(33)與水箱(31)相連接，所述吸水件(33)通過裝配座(34)約束在裝配套(16)的下端口處并將該下端口覆蓋，所述回流結構為開設于裝配座(34)側壁上的回流口(341)。

6.根據權利要求1 ~ 5中任一權利要求所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述基座(1)下方設置有電路板(4)，所述負離子針(2)的下端連接于該電路板(4)上、上端向輸入口(12)處延伸。

7.根據權利要求6所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述負離子針(2)的上部穿過基座(1)底壁豎向布置在負離子發生腔(10)中且靠近輸入口(12)布置。

8.根據權利要求6所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述負離子針的上部斜向上彎折至上端靠近輸入口的下邊緣布置。

9.根據權利要求1 ~ 5中任一權利要求所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述基座(1)的頂部具有與其脫卸式連接的頂蓋(17)，所述輸出口(14)開設于該頂蓋(17)上，所述頂蓋(17)的下壁面上設置有自邊緣向中部逐漸向下延伸的導流筋(171)，且該導流筋(171)的下端對應開口(13)內緣布置。

10.根據權利要求9所述的水合負氧離子產生裝置，其特征在于：所述頂蓋(17)下壁面在對應開口(13)處設置有擋板(172)，該擋板(172)的邊緣處設置有自邊緣向中間逐漸向上拱起的弧形導流條(173)，且該導流條(173)的下端與導流筋(171)下端相連接。