[實用新型]工業(yè)設(shè)備及氣旋式排風(fēng)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202021009875.5
• 申請日: 2020-06-04
• 公開（公告）號: CN212494449U
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王錦堂;黃彥文;邱毓絜
• 申請（專利權(quán)）人: 盟立自動化股份有限公司
• 主分類號: B08B15/00
• 分類號: B08B15/00;F15D1/00
• 代理公司: 北京律和信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11446
• 代理人: 張羽;項榮

1.一種工業(yè)設(shè)備，其特征在于，所述工業(yè)設(shè)備包括：

一制程機器，其一側(cè)形成有一開口；以及

一氣旋式排風(fēng)裝置，安裝于所述制程機器的所述開口，并且所述氣旋式排風(fēng)裝置包括：

一筒體，呈長形且定義有一長軸方向，所述筒體包圍形成有一氣流通道，所述筒體沿著所述長軸方向形成有位于所述氣流通道起始端的一長形進氣區(qū)，并且所述筒體形成有位于所述氣流通道終端的一排氣口；

一導(dǎo)流件，安裝于所述氣流通道內(nèi)；及

一隔板，位于所述氣流通道內(nèi)并連接所述導(dǎo)流件與所述筒體；

其中，所述氣流通道定義有：

一導(dǎo)流室，位于所述導(dǎo)流件與所述長形進氣區(qū)之間；

一氣旋室，位于所述導(dǎo)流件遠離所述導(dǎo)流室的一側(cè)；其中，所述氣旋室的容積為所述導(dǎo)流室與所述氣旋室的容積總和的35％～95％；

至少一個導(dǎo)流間隙，沿所述導(dǎo)流件的一長度方向而形成于所述導(dǎo)流件、并連通所述導(dǎo)流室與所述氣旋室；其中，在所述導(dǎo)流室與所述氣旋室之間且涵蓋至少一個所述導(dǎo)流間隙的一縱向剖面中，至少一個所述導(dǎo)流間隙的面積為所述筒體在所述縱向剖面的一圍繞面積的1％～35％；及

一集氣室，連通于所述氣旋室與所述排氣口、且通過所述隔板而與所述導(dǎo)流室隔離；

其中，所述氣旋式排風(fēng)裝置能用來供所述制程機器內(nèi)部的一氣流穿過所述開口與所述長形進氣區(qū)而進入所述氣流通道，并且所述導(dǎo)流件能用來導(dǎo)引所述氣流穿過至少一個所述導(dǎo)流間隙而于所述氣旋室內(nèi)形成朝向所述集氣室呈螺旋狀流動的至少一個氣旋。

2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)流件的所述長度方向平行于所述長軸方向，并且所述氣旋室的所述容積為所述導(dǎo)流室與所述氣旋室的所述容積總和的40％～75％。

3.依據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，至少一個所述導(dǎo)流間隙的所述面積為所述筒體在所述縱向剖面的所述圍繞面積的3％～7％。

4.依據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，于所述縱向剖面中，至少一個所述導(dǎo)流間隙于所述長軸方向的兩端分別具有一第一寬度與及不大于所述第一寬度的一第二寬度，并且至少一個所述導(dǎo)流間隙任一處的寬度不大于所述第一寬度，而所述第一寬度為所述第二寬度的1～15倍。

5.依據(jù)權(quán)利要求4所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，于所述縱向剖面中，所述第一寬度為所述第二寬度的1～8倍。

6.依據(jù)權(quán)利要求4所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，于所述縱向剖面中，具有所述第一寬度的至少一個所述導(dǎo)流間隙的一區(qū)域遠離所述排氣口，而具有所述第二寬度的至少一個所述導(dǎo)流間隙的一區(qū)域鄰近所述排氣口。

7.依據(jù)權(quán)利要求6所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，于所述縱向剖面中，至少一個所述導(dǎo)流間隙的寬度由遠離所述排氣口朝向所述排氣口呈漸縮狀，用以使穿過至少一個所述導(dǎo)流間隙的所述氣流的速度由遠離所述排氣口朝向所述排氣口漸增。

8.依據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)流件在遠離所述排氣口的部位形成有一導(dǎo)風(fēng)口，并且所述導(dǎo)風(fēng)口正投影于所述縱向剖面的一投影面積，其小于所述筒體在所述縱向剖面的所述圍繞面積的16％。

9.依據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)風(fēng)口的所述投影面積小于所述筒體在所述縱向剖面的所述圍繞面積的5％。

10.依據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)流件包含有面向所述長形進氣區(qū)的兩個導(dǎo)流面，并且兩個所述導(dǎo)流面之間的距離自鄰近所述長形進氣區(qū)朝遠離所述長形進氣區(qū)的一方向呈漸增狀。

11.依據(jù)權(quán)利要求10所述的工業(yè)設(shè)備，其特征在于，兩個所述導(dǎo)流面形成有介于30度至180度的一夾角，并且位于兩個所述導(dǎo)流面相反側(cè)的所述導(dǎo)流件部位呈凹陷狀，用以供至少一個所述氣旋形成。