[實用新型]一種濺射鍍膜生產系統

有效

• 申請號: 202021009086.1
• 申請日: 2020-06-03
• 公開（公告）號: CN212713743U
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 韓陽;賈祥文;李均平;曹麗娟;鄒健
• 申請（專利權）人: 蘇州銳世訊光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 蘇州彰尚知識產權代理事務所(普通合伙) 32336
• 代理人: 趙成磊

1.一種濺射鍍膜生產系統，其特征在于：包括依次連通的進料區(1)、工作區(20)和卸料區(4)，工作區(20)依據鍍膜工藝流程方向依次包括第一預真空室(201)、第二預真空室(202)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)、第二鍍膜室(205)、第二過渡室(206)和第三過渡室(207)，工作區(20)各室均具備所需真空環境，所述各室通過密封裝置分隔，第一預真空室(201)和第三過渡室(207)外分別依次連接第四羅茨泵(208)和滑閥泵(209)，通過第四羅茨泵(208)和滑閥泵(209)對第一預真空室(201)和第三過渡室(207)進行抽真空處理，第二預真空室(202)外連接有第一擴散泵(221)，第一過渡室(204)、第一鍍膜室(203)、第二過渡室(206)和第二鍍膜室(205)外均分別連接兩個第二擴散泵(210)，第一擴散泵(221)的自由端依次連接有第一羅茨泵(211)和第一旋片泵(212)，第二過渡室(206)和第一鍍膜室(203)外的四個第二擴散泵(210)的自由端一起連接有第二羅茨泵(213)和第二旋片泵(214)，第二過渡室(206)和第二鍍膜室(205)外的四個第二擴散泵(210)的自由端一起連接有第三羅茨泵(215)和第三旋片泵(216)，第一鍍膜室(203)和第二鍍膜室(205)的兩邊均設有對稱的兩個靶材(217)。

2.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：第一鍍膜室(203)和第二鍍膜室(205)內的靶材(217)的材料可以不同也可以相同。

3.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：進料區(1)設有上料臺(11)，卸料區(4)設有卸料臺(41)。

4.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：工作區(20)內設有連通的工作軌道(218)，工作區(20)外設有傳輸軌道(3)，進料區(1)和進料區(1)的一端通過工作軌道(218)連通，另一端通過傳輸軌道(3)連通。

5.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：工作區(20)靠近卸料區(4)處設有卸料口(219)，工作區(20)靠近進料區(1)處設有進料口(220)。

6.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：第一預真空室(201)的真空度與第三過渡室(207)的真空度相同。

7.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：第二預真空室(202)、第二過渡室(206)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)和第二鍍膜室(205)的真空度相同。

8.如權利要求1所述的濺射鍍膜生產系統，其特征在于：第一預真空室(201)和第三過渡室(207)的真空度小于第二預真空室(202)、第二過渡室(206)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)和第二鍍膜室(205)的真空度。