[實用新型]渦旋干涉光鑷系統

有效

• 申請號: 202020997084.1
• 申請日: 2020-06-03
• 公開（公告）號: CN212410969U
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 代林茂;李曉春;范奕村;黃暉輝;張禮朝
• 申請（專利權）人: 長沙麓邦光電科技有限公司
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28;G02B27/09;G02B21/26;G02B21/06;G02B21/36;G21K1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，包括：

激光器；

光鑷子系統；

位于所述光鑷子系統與所述激光器之間的渦旋光束干涉子系統；

所述渦旋光束干涉子系統采用馬赫曾德干涉結構以向所述光鑷子系統輸出渦旋干涉光，光臂一為渦旋光束模塊，光臂二為平面波模塊；所述渦旋光束模塊包括第一偏振片、1/4波片和渦旋波片；所述1/4波片用于將第一偏振片過濾出的偏振光轉換為圓偏振光，所述渦旋波片用于將圓偏振光轉換成渦旋光束；所述平面波模塊以透鏡將偏轉光轉換成平面波光束；

在所述第一偏振片與所述激光器之間還設置有第二偏振片；

所述第二偏振片與所述第一偏振片之間至少一個能活動以通過改變兩偏振片之間的夾角變化來調節渦旋光束的光強變化。

2.根據權利要求1所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，所述馬赫曾德干涉結構包括兩個分束器立方和兩個反射鏡，在第一分束器立方與第一反射鏡之間部署所述渦旋光束模塊，在第二分束器立方與第二反射鏡之間部署所述平面波模塊；所述第一分束器立方設置在所述第一偏振片與所述1/4波片之間。

3.根據權利要求1或2所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，所述第一偏振片與所述1/4波片分別安裝于旋轉架上，以通過所述1/4波片的旋轉來調節渦旋光束的拓撲何數正負值變化。

4.根據權利要求3所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，所述光鑷子系統包括：

放置樣品的XYZ三軸位移臺；

以及驅動所述XYZ三軸位移臺位移的運動控制模塊；

白光LED照明光源；用于對所述樣品進行照明；

顯微物鏡；

二向色鏡模塊；

CMOS相機模塊；

其中，所述渦旋干涉子系統發出的渦旋干涉光正向分別經所述二向色鏡模塊及顯微物鏡后捕獲所述樣品中的粒子；攜帶激光捕獲樣品信息的照明光反向分別經過所述顯微物鏡、二向色鏡模塊并經反射鏡反射后，入射到所述CMOS相機模塊上成像。

5.根據權利要求4所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，在白光LED照明光源與所述樣品之間還設置有光束整形模塊。

6.根據權利要求5所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，在CMOS相機模塊前端設有濾光片，以濾出從樣品反射回來的激光。

7.根據權利要求6所述的渦旋干涉光鑷系統，其特征在于，在所述CMOS相機模塊前端與所述濾光片之間增設消色差透鏡。