[實(shí)用新型]光學(xué)模組及點(diǎn)陣投影設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020971506.8 | 申請日： | 2020-06-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN212623373U | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 齊偉偉;李金洪 | 申請（專利權(quán)）人： | 三贏科技（深圳）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B27/42 | 分類號(hào)： | G02B27/42;G03B15/02 |
| 代理公司： | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人： | 劉永輝;李艷霞 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 模組 點(diǎn)陣 投影設(shè)備 | ||
1.一種光學(xué)模組，其特征在于，包括：光源模塊、設(shè)于所述光源模塊出光側(cè)的晶狀體、至少兩個(gè)第一鏡面、至少兩個(gè)第二鏡面以及設(shè)于所述晶狀體出光側(cè)的衍射光學(xué)組件，所述第一鏡面與所述第二鏡面均設(shè)置于所述晶狀體內(nèi)部，所述第一鏡面與所述第二鏡面沿光線的傳輸路徑交替排列，使得光線在所述第一鏡面與所述第二鏡面之間傳輸方向經(jīng)過多次改變。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述第一鏡面與所述第二鏡面均為平面鏡面。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)模組，其特征在于，每一所述第一鏡面與位于所述傳輸路徑的下一個(gè)所述第二鏡面平行設(shè)置。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述第一鏡面與所述第二鏡面均為全反射鏡面。
5.如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述光學(xué)模組還包括至少一個(gè)第一透鏡與至少兩個(gè)第二透鏡，每一所述第一透鏡包括兩個(gè)所述第一鏡面。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)模組，其特征在于，相鄰兩所述第一鏡面之間呈第一角度設(shè)置，相鄰兩所述第二鏡面之間呈第二角度設(shè)置。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述第一角度與所述第二角度均為90°。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述晶狀體包括朝向所述光源模塊的底表面，位于所述傳輸路徑上的首個(gè)所述第一鏡面和首個(gè)所述第二鏡面均與所述底表面呈第三角度設(shè)置。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述光學(xué)模組還包括一基底，所述光源模塊固定在所述基底上；
所述光源模塊為點(diǎn)光源。
10.一種點(diǎn)陣投影設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的光學(xué)模組。
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