[實用新型]一種次氯酸鈉發生器除垢機構有效
| 申請號: | 202020964826.0 | 申請日: | 2020-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN212525071U | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 袁野;房臣昌 | 申請(專利權)人: | 濟南歐瑞實業有限公司 |
| 主分類號: | B08B1/02 | 分類號: | B08B1/02;B08B3/10;B08B13/00;C23G3/00 |
| 代理公司: | 山東瑞宸知識產權代理有限公司 37268 | 代理人: | 呂艷芹 |
| 地址: | 250100 山東省濟南市天橋區*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 次氯酸 發生器 除垢 機構 | ||
本實用新型公開了一種次氯酸鈉發生器除垢機構,包括除垢箱,所述除垢箱的下表面兩側均固定連接有安裝板,所述安裝板的上表面固定安裝有電動推桿,所述電動推桿的驅動端頂端固定連接有頂板,所述頂板的下表面固定連接有多個支撐桿,所述支撐桿的底端固定連接有第一支撐板。本實用新型中,第三電機轉動帶動兩個第二豎板相對移動,從而將電極夾緊,兩個第一電機轉動分別帶動使得兩個毛刷貼緊電極的外表面,第二電機轉動帶動第二螺紋桿轉動,從而帶動橫板上下移動,進而通過導向桿帶動第二支撐板上下移動,從而使得電極在兩個毛刷之間上下移動,從而將電極外表面上的污垢清除,省去了人工清洗操作,大大提高了清洗速度和清洗效果。
技術領域
本實用新型涉及污垢處理技術領域,尤其涉及一種次氯酸鈉發生器除垢機構。
背景技術
次氯酸鈉發生器是水處理消毒殺菌設備的一種,該設備以食鹽水作為原材料,通過電解反應產生次氯酸鈉溶液。次氯酸鈉發生器在電解過程中,鎂、鈣等離子的化合物會逐漸沉積在電極壁上形成水垢。水垢的形成會電解效率會下降,水垢嚴重時會影響電極使用,此時就應該對次氯酸鈉發生器電極進行清洗;
現有的次氯酸鈉發生器除垢機構需要將電極拆卸下來,然后放入清洗池中進行人工清洗,不僅清洗速度慢,而且浪費大量的人力物力,從而提高了除垢的成本,且清洗效果不理想。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種次氯酸鈉發生器除垢機構。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:一種次氯酸鈉發生器除垢機構,包括除垢箱,所述除垢箱的下表面兩側均固定連接有安裝板,所述安裝板的上表面固定安裝有電動推桿,所述電動推桿的驅動端頂端固定連接有頂板,所述頂板的下表面固定連接有多個支撐桿,所述支撐桿的底端固定連接有第一支撐板,所述第一支撐板的上表面對稱開設有第一開口,兩個所述第一開口的內部均貫穿滑動連接有第一豎板,兩個所述第一豎板的底端且相對的一側均固定連接有連桿,兩個所述連桿相靠近的一端均固定連接有毛刷,兩個所述第一豎板位于第一支撐板上方的一端均貫穿設有通過螺紋轉動連接的第一螺紋桿,所述第一支撐板的上表面且靠近第一螺紋桿的位置對稱固定安裝有第一電機,所述第一支撐板的上表面且位于兩個第一開口之間的位置對稱貫穿滑動連接有導向桿,所述導向桿位于第一支撐板上方的一端固定連接有橫板,所述橫板的外表面中心位置貫穿設有通過螺紋轉動連接的第二螺紋桿,所述第一支撐板的上表面且靠近第二螺紋桿的位置固定安裝有第二電機,所述導向桿位于第一支撐板下方的一端固定連接有第二支撐板,所述第二支撐板的上表面對稱開設有第二開口,兩個所述第二開口的內部均貫穿滑動連接有第二豎板,所述第二豎板位于第二支撐板下方的一端固定連接有夾板,兩個所述夾板之間夾持有電極,兩個所述第二豎板位于第二支撐板上方的一端貫穿有通過螺紋轉動連接的同一個第三螺紋桿,所述第二支撐板的上表面且靠近第三螺紋桿的位置固定安裝有第三電機。
作為上述技術方案的進一步描述:
兩個所述第一電機的輸出軸分別與兩個第一螺紋桿的一端固定連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述第二電機的輸出軸與第二螺紋桿的一端固定連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
兩個所述第二豎板內部的螺紋旋向相反。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述第三電機的輸出軸與第三螺紋桿的一端固定連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
兩個所述夾板外表面且相對的一側均固定連接有緩沖板。
本實用新型具有如下有益效果:
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