[實(shí)用新型]一種光學(xué)零件切割冷卻裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020962297.0
• 申請(qǐng)日: 2020-05-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212399983U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樊岳林
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江臺(tái)佳電子信息科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B28D7/02
• 分類(lèi)號(hào): B28D7/02
• 代理公司: 杭州裕陽(yáng)聯(lián)合專(zhuān)利代理有限公司 33289
• 代理人: 姚宇吉

本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)零件切割冷卻裝置，下蓋板的外周設(shè)有外框，所述上蓋板靠近下蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)上隔板，所述下蓋板靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)下隔板，所述下隔板在下蓋板上形成多個(gè)容納腔，所述上隔板在上蓋板上形成多個(gè)與容納腔連通的第一傳輸腔，相鄰所述下隔板之間形成與第一傳輸腔連通的第二傳輸腔，所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與第二傳輸腔連通的出料腔，所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與出料腔連通的出料口。砂液進(jìn)入到容納腔，容納腔內(nèi)的砂液通過(guò)第一傳輸腔進(jìn)行緩慢分散到第二傳輸腔內(nèi)，再進(jìn)入到出料腔內(nèi)，最后從出料口分散開(kāi)，均勻噴淋到切割晶片上，如此可以有效提高砂液噴淋的均勻性，避免了光學(xué)晶片在切割過(guò)程中冷卻不均勻?qū)е麦@裂的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光學(xué)零件生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種光學(xué)零件切割冷卻裝置。

背景技術(shù)

光學(xué)零件在高技術(shù)領(lǐng)域和軍事、工業(yè)、民用等領(lǐng)域中應(yīng)用十分廣泛，在本世紀(jì)初，我國(guó)光學(xué)制造業(yè)已取得了不錯(cuò)的成果，進(jìn)入了發(fā)展的高峰期，并以形成了很強(qiáng)的生產(chǎn)能力。光學(xué)零件在切割時(shí)需要進(jìn)行砂液冷卻，然而噴砂時(shí)，常使用穿孔砂管，噴砂不均勻，促使光學(xué)零件冷卻不均勻而導(dǎo)致驚裂問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種光學(xué)零件切割冷卻裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

一種光學(xué)零件切割冷卻裝置，包括上蓋板和下蓋板，所述下蓋板的外周設(shè)有外框，所述上蓋板靠近下蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)上隔板，所述下蓋板靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)下隔板，所述下隔板在下蓋板上形成多個(gè)容納腔，所述上隔板在上蓋板上形成多個(gè)與容納腔連通的第一傳輸腔，相鄰所述下隔板之間形成與第一傳輸腔連通的第二傳輸腔，所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與第二傳輸腔連通的出料腔，所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與出料腔連通的出料口。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述第二傳輸腔的內(nèi)徑為m2，所述出料腔的內(nèi)徑為m3，m3＜m2。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述m3＜1/3m2。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述下隔板與上隔板之間的間隙為m1，2cm≤m1≤8cm。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述下隔板的上端突出于上隔板的下端的高度為m4，5mm≤m4≤25mm。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述上蓋板和下蓋板的外側(cè)設(shè)有兩個(gè)螺栓軸，所述螺栓軸之間連接有螺栓套，兩個(gè)螺栓軸的一端均設(shè)有L型限位板，所述L型限位板靠近上蓋板的一側(cè)以及L型限位板靠近下蓋板的一側(cè)均設(shè)有第一活塞，所述第一活塞靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有活塞軸，所述活塞軸遠(yuǎn)離第一活塞的一側(cè)安裝有第二活塞，所述第二活塞安裝在上蓋板上。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述第一活塞和第二活塞之間設(shè)有彈簧，所述彈簧套接在活塞軸的外周。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述外框靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有插孔，所述上蓋板靠近外框的一側(cè)設(shè)有插接在插孔內(nèi)的限位軸，所述限位軸與插孔間隙配合。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案：所述限位軸的外周設(shè)有限位凸筋，所述插孔內(nèi)壁設(shè)有供限位凸筋插接的限位槽。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：使用時(shí)，砂液進(jìn)入到容納腔，容納腔內(nèi)的砂液通過(guò)第一傳輸腔進(jìn)行緩慢分散到第二傳輸腔內(nèi)，再進(jìn)入到出料腔內(nèi)，最后從出料口分散開(kāi)，均勻噴淋到切割晶片上，如此可以有效提高砂液噴淋的均勻性，避免了光學(xué)晶片在切割過(guò)程中冷卻不均勻?qū)е麦@裂的問(wèn)題。

本實(shí)用新型的其他特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)在下面的具體實(shí)施方式、附圖中詳細(xì)的揭露。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型所述光學(xué)零件切割冷卻裝置實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖；