[實用新型]真空回流焊爐均熱屏

有效

• 申請號: 202020961839.2
• 申請日: 2020-05-30
• 公開（公告）號: CN212240178U
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 楊凱駿;任思巖;尹衛東
• 申請（專利權）人: 山西斯米咖科技有限公司
• 主分類號: B23Q3/08
• 分類號: B23Q3/08
• 代理公司: 太原智慧管家知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 14114
• 代理人: 馬俊平

本實用新型公開真空回流焊爐均熱屏,包括支撐架和均熱板,均熱板通過傘頭螺栓固定于支撐架上,支撐架具有兩平行設置的支撐下橫梁、四個支撐腿以及兩平行設置的上橫梁，每根支撐下橫梁的兩端上部分別垂直固定有一根支撐腿，每根上橫梁連接不固定于同一支撐下橫梁的兩根支撐腿，支撐下橫梁與上橫梁垂直；均熱板包括一體成型的橢圓形主體和兩個側翼，橢圓形主體的中部開設吹起通孔，吹起通孔的兩側對稱設有第一透光孔組，兩個側翼上關于吹起通孔對稱開設第二透光孔組。本實用新型可以在不改變現有真空回流焊爐的結構基礎上，安裝入真空回流焊爐內部，其中的均熱板可以避免真空回流焊爐的中部紅外加熱集中。

技術領域

本實用新型涉及電子制造領域，具體涉及真空回流焊爐均熱屏。

背景技術

真空回流爐是在真空的環境下對產品進行高質量的焊接，在升溫或者降溫過程中通入還原性系統，用以保護產品和焊料不被氧化。目前采用的真空回流爐存在熱量分布不均勻即中部溫度高，而四周溫度低，嚴重影響焊爐的焊接效率，同時還造成的增加能耗。

發明內容

為了克服現有存在種種缺陷的不足，本實用新型的目的在于：提供一種真空回流焊爐均熱屏，該均熱屏能夠優化均熱結構，使其可實際應用于微小電子設備的均勻加熱。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案如下：

真空回流焊爐均熱屏,其特征在于,包括支撐架和均熱板,所述均熱板通過傘頭螺栓固定于所述支撐架上,所述支撐架具有兩平行設置的支撐下橫梁、四個支撐腿以及兩平行設置的上橫梁，每根所述支撐下橫梁的兩端上部分別垂直固定有一根所述支撐腿，每根所述上橫梁連接不固定于同一所述支撐下橫梁的兩根所述支撐腿，所述支撐下橫梁與所述上橫梁垂直；所述均熱板包括一體成型的橢圓形主體和兩個側翼，所述橢圓形主體的中部開設吹起通孔，所述吹起通孔的兩側對稱設有第一透光孔組，兩個所述側翼上關于所述吹起通孔對稱開設第二透光孔組。

優選的，所述第一透光孔組具有至少四個第一透光孔，所述第一透光孔沿遠離所述吹起通孔方向尺寸逐漸變小，并且相鄰兩個所述第一透光孔之間的距離不同；所述第二透光孔組具有至少三個第二透光孔，所述第二透光孔沿遠離所述吹起通孔方向尺寸逐漸變小，并且相鄰兩個所述第二透光孔之間的距離不同。

由于采用上述技術方案，使本實用新型與現有技術相比，具有如下有益效果：

1.本實用新型可以在不改變現有真空回流焊爐的結構基礎上，安裝入真空回流焊爐內部，其中的均熱板可以避免真空回流焊爐的中部紅外加熱集中，均熱板上開設有吹起通孔、第一透光孔組和第二透光孔組，吹起通孔用于吹起口穿過，第一透光孔組和第二透光孔組可以使部分紅外線透過均熱板確保真空回流焊爐的加熱均勻；

2.本實用新型經過大量實驗得出第一透光孔和第二透光孔均不等距設置，效果最佳，優化均熱結構，使其可實際應用于微小電子設備的均勻加熱。

附圖說明

構成本申請的一部分的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型的不當限定。在附圖中：

圖1為支撐架結構示意圖；

圖2為均熱板結構示意圖；

圖3為本實用新型結構示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。

為了使本技術領域的人員更好地理解本申請方案，下面將結合本申請實施例，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分的實施例，而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本申請保護的范圍。