[實用新型]動態隨機存取存儲器之版圖結構有效
| 申請號: | 202020937257.0 | 申請日: | 2020-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN212135137U | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發明(設計)人: | 張欽福;林昭維;朱家儀;童宇誠;馮立偉;賴惠先 | 申請(專利權)人: | 福建省晉華集成電路有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/70 | 分類號: | G03F1/70;H01L21/8242 |
| 代理公司: | 上海思捷知識產權代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
| 地址: | 362200 福建省泉州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 動態 隨機存取存儲器 版圖 結構 | ||
1.一種動態隨機存取存儲器的版圖結構,其特征在于,包括:
多個字線圖案,沿第一方向延伸并沿第二方向平行排列;
多個有源區圖案,各所述有源區圖案與兩所述字線圖案相交而被劃分成一個中間部及兩個端部,其中所述中間部的形狀為平行四邊形,且包括一對鈍角以及一對銳角;以及
多個接觸圖案,重疊所述有源區圖案的所述中間部,并且包括平行于所述第一方向的一對第一邊緣以及位于所述第一邊緣之間的一對第二邊緣,所述第二邊緣包括階梯形狀。
2.如權利要求1所述的版圖結構,其特征在于,所述有源區圖案沿第三方向延伸并沿所述第一方向交錯排列,所述第三方向不平行于所述第一方向與所述第二方向。
3.如權利要求1所述的版圖結構,其特征在于,所述有源區圖案的中間部與相鄰有源區圖案的所述端部之間包括一隔離區,所述接觸圖案重疊所述隔離區的面積的40%至50%。
4.如權利要求1所述的版圖結構,其特征在于,所述接觸圖案的形狀包括Z型。
5.如權利要求1所述的版圖結構,其特征在于,所述接觸圖案的所述第一邊緣在所述第二方向上錯位。
6.如權利要求1所述的版圖結構,其特征在于,所述接觸圖案與兩所述字線圖案部分重疊。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





