[實用新型]等離子體處理裝置及蝕刻裝置有效
| 申請號： | 202020923036.8 | 申請日： | 2020-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN212182267U | 公開（公告）日： | 2020-12-18 |
| 發明（設計）人： | 張濤;張彬彬;伍凱義;蘇財鈺;向毅 | 申請（專利權）人： | 重慶康佳光電技術研究院有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/02 | 分類號： | H01J37/02;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 江舟 |
| 地址： | 402760 重慶市璧*** | 國省代碼： | 重慶;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 蝕刻 | ||
1.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括蝕刻腔體和設于所述蝕刻腔體的排氣端的至少兩組緩沖組件；
所述至少兩組緩沖組件包括第一緩沖組件和第二緩沖組件，所述第一緩沖組件和所述第二緩沖組件間隔第一預設距離，所述第一緩沖組件位于所述第二緩沖組件與所述排氣端的端面之間，所述第一緩沖組件、所述第二緩沖組件和所述端面的中心點均位于同一直線上；
所述第一緩沖組件和所述第二緩沖組件均與所述蝕刻腔體的側壁連接。
2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第一緩沖組件與所述端面之間的間隔為第二預設距離，所述第二預設距離小于或等于所述第一預設距離。
3.根據權利要求2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第二預設距離為40至60毫米。
4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第一緩沖組件包括第一緩沖圈和第一緩沖板；
所述第一緩沖板套裝在所述第一緩沖圈內。
5.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第二緩沖組件包括第二緩沖圈和第二緩沖板；
所述第二緩沖板套裝在所述第二緩沖圈內。
6.根據權利要求1至5任一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第一預設距離為40至60毫米。
7.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述等離子體處理裝置還包括固定件，所述第一緩沖組件和所述第二緩沖組件均通過所述固定件固定連接在所述蝕刻腔體的側壁。
8.根據權利要求7所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述固定件為真空螺母。
9.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述第一緩沖組件和所述第二緩沖組件均采用陽極化處理后的鋁材制成。
10.一種蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置包括如權利要求1至9任一項所述的等離子體處理裝置。
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