[實用新型]反應爐及基材鍍膜系統

有效

• 申請號: 202020914124.1
• 申請日: 2020-05-26
• 公開（公告）號: CN212894484U
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 來華杭;俞峰;魯天豪;婁國明;周海龍
• 申請（專利權）人: 浙江上方電子裝備有限公司
• 主分類號: C04B41/87
• 分類號: C04B41/87;B01D46/00;B01F13/10;B01F15/06
• 代理公司: 杭州合信專利代理事務所(普通合伙) 33337
• 代理人: 沈自軍

本申請公開了一種反應爐及基材鍍膜系統，反應爐包括：第一爐體；位于所述第一爐體內的第二爐體，所述第二爐體的一端開設有與工藝氣路相連通的進氣口，另一端開設有與抽氣管相連通的出氣口，所述第一爐體與所述第二爐體之間為中間腔；設置于所述中間腔內的調溫裝置；設置于所述第二爐體內并用于承托基材的置物臺；與所述置物臺連接并用于驅動置物臺升降和旋轉的驅動裝置，該方案相對于現有技術，置物臺通過旋轉可實現基材鍍層的全方位覆蓋，使鍍層均勻，同時置物臺能夠升降，保證基材在上下方向的均勻覆蓋。

技術領域

本申請涉及鍍膜設備領域，特別是涉及一種反應爐及基材鍍膜系統。

背景技術

鍍膜系統包括供氣機構、反應爐以及抽氣機構，其中反應爐包括第一爐體，以及位于第一爐體內的第二爐體?；脑阱兡r，將基材放置在第二爐體內，通過抽氣機構對第一爐體與第二爐體之間的空間進行抽氣，同時將第一爐體加熱到設定的溫度，供氣機構將工藝氣體輸送至第二爐體內，在基材鍍膜結束后，需要將第二爐體內的工藝氣體完全排出，等冷卻下來停泵開腔體取出產品。

上述鍍膜系統中，工藝氣體在進入第二爐體內時，不能保證氣體在第二爐體內均勻分布，從而會出現基材鍍層不均勻的問題。

實用新型內容

本申請提供的一種反應爐及基材鍍膜系統，用于解決現有技術中基材的鍍層覆蓋不均勻的技術問題。

本申請提供一種用于基材鍍膜的反應爐，包括：

第一爐體；

位于所述第一爐體內的第二爐體，所述第二爐體的一端開設有與工藝氣路相連通的進氣口，另一端開設有與抽氣管相連通的出氣口，所述第一爐體與所述第二爐體之間為中間腔；

設置于所述中間腔內的調溫裝置；

設置于所述第二爐體內并用于承托基材的置物臺；

與所述置物臺連接并用于驅動置物臺升降和旋轉的驅動裝置，所述驅動裝置包括：

安裝于所述第一爐體外側壁的第一電機；

與所述電機聯動的轉筒，所述轉筒依次穿過所述第一爐體以及所述第二爐體；

安裝于所述轉筒的第二電機；

位于所述轉筒內的推桿，所述推桿隨所述轉筒轉動，并通過第二電機驅動沿所述轉筒軸向運動，所述推桿與所述置物臺相連接。

以下還提供了若干可選方式，但并不作為對上述總體方案的額外限定，僅僅是進一步的增補或優選，在沒有技術或邏輯矛盾的前提下，各可選方式可單獨針對上述總體方案進行組合，還可以是多個可選方式之間進行組合。

可選的，所述第一爐體包括第一筒體以及分別扣合于所述第一筒體兩端的兩個第一蓋板，所述第二爐體能夠通過所述第一筒體的其中一端進入所述第一爐體內；

所述第二爐體包括第二筒體以及分別扣合于所述第二筒體兩端的兩個第二蓋板，兩個第二蓋板中，其中一個設置有所述進氣口，另一個設置有所述出氣口。

可選的，所述第二爐體內還設有至少兩個分氣盤，各分氣盤的周緣均與所述第二爐體的內壁相連接，并分別與兩個第二蓋板相對布置。

可選的，所述第一爐體開設有與所述抽氣管相連通的排氣口；

所述第二爐體連接有出氣管，所述出氣管的一端與所述出氣口相連通，另一端穿過排氣口并延伸至所述抽氣管，且所述出氣管與所述抽氣管之間呈間隙配合，該間隙開放于所述中間腔。

可選的，所述出氣管與所述抽氣管之間設置有保持架，所述保持架用與保持所述出氣管與所述抽氣管之間的相對位置。

可選的，所述驅動裝置還包括：