[實用新型]一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構

有效

• 申請號: 202020901409.1
• 申請日: 2020-05-26
• 公開（公告）號: CN212476876U
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 朱雙林;李春敏;馬國忠;胡人文;王恩強;黃道平;沈偉
• 申請（專利權）人: 蘇州索科特新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及化學氣相沉積設備技術領域，尤其涉及一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構，解決現有技術中存在的缺點，包括機殼和真空泵，所述機殼為空腔結構，所述機殼的內部滑動設置有沉積臺，沉積臺的頂部固定安裝有加熱器，所述加熱器的頂部固定連接有基片，且機殼的內壁一側分別焊接有隔絕罩和導向塊，所述隔絕罩的內部滑動設置有升降板，通過伺服電機、絲杠、沉積臺、隔絕罩、升降板以及螺桿等結構的設置，在基片進行沉積處理前，利用進氣管可提前將氣體泵入設備內部，使氣體均勻擴散在設備內，隨后通過伺服電機來使沉積臺在設備內部來回滑動，以此確保氣體能夠均勻地包裹在基片表面，從而提升基片的沉積效果。

技術領域

本實用新型涉及化學氣相沉積設備技術領域，尤其涉及一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構。

背景技術

化學氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法，化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術，化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料，這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。

現有技術中的化學沉積設備是直接將氣體通入機殼內部與基片進行反應，在通入氣體時，由于氣體還未均勻地分布在機殼內部，故在反應時氣體并不能均勻地沉積在基片表層。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構，包括機殼和真空泵，所述機殼為空腔結構，所述機殼的內部滑動設置有沉積臺，沉積臺的頂部固定安裝有加熱器，所述加熱器的頂部固定連接有基片，且機殼的內壁一側分別焊接有隔絕罩和導向塊，所述隔絕罩的內部滑動設置有升降板，升降板的一端通過螺栓固定有連接板，連接板的底部一側安裝有第一軸承，所述導向塊的內部開設有螺孔，所述螺孔的內部螺紋連接有螺桿，所述螺桿的一端套設在所述第一軸承的內部。

優選的，所述機殼的一側通過螺栓安裝有伺服電機，伺服電機的輸出端通過聯軸器連接有絲杠，所述絲杠轉動安裝在所述機殼的內部，所述沉積臺的內部開設有安裝孔，安裝孔的內部通過沉頭螺栓固定有滾珠螺母，所述滾珠螺母裝配在所述絲杠的外部。

優選的，所述機殼的內壁兩側均固定安裝有第二軸承，所述絲杠的兩端均套設在所述第二軸承的內部。

優選的，所述機殼內腔的底壁上通過鉚釘固定有導軌，所述沉積臺的底部通過螺絲固定有滑塊，滑塊與導軌滑動連接。

優選的，所述真空泵的一側固定連接有抽氣管，所述抽氣管的另一端通過法蘭盤與所述機殼固定連接。

優選的，所述隔絕罩的頂部開設有滑孔，所述升降板與所述滑孔的內部滑動連接。

優選的，所述升降板的底部開設有凹槽，所示凹槽的內部通過粘合劑粘接有密封墊。

本實用新型的有益效果是：與現有技術相比較，本實用新型結構簡單、設計合理，通過伺服電機、絲杠、沉積臺、隔絕罩、升降板以及螺桿等結構的設置，在基片進行沉積處理前，利用進氣管可提前將氣體泵入設備內部，使氣體均勻擴散在設備內，隨后通過伺服電機來使沉積臺在設備內部來回滑動，以此確保氣體能夠均勻地包裹在基片表面，從而提升基片的沉積效果。

附圖說明

圖1為本實用新型提出的一種提高涂層均勻性的化學氣相沉積結構的主視圖；

圖2為本實用新型提出的沉積臺和升降板的側視圖。