[實用新型]微動臺及包括微動臺的運動裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020876271.4
• 申請日: 2020-05-22
• 公開（公告）號: CN211605113U
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳火亮;陳嘯虎;瞿曉晨;陳椿元;楊日升
• 申請（專利權(quán)）人: 上海隱冠半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 上海上谷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31342
• 代理人: 蔡繼清

1.一種微動臺，其特征在于，包括：

載臺；

旋轉(zhuǎn)底座，所述旋轉(zhuǎn)底座位于所述載臺下方，所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面設(shè)有環(huán)形上部凹腔，所述旋轉(zhuǎn)底座的下表面設(shè)有下部凹腔，其中所述上部凹腔與所述下部凹腔在垂直于所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面方向上的投影相互錯開；

旋轉(zhuǎn)電機，所述旋轉(zhuǎn)電機容納在所述環(huán)形上部凹腔內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)電機包括旋轉(zhuǎn)電機動子和旋轉(zhuǎn)電機定子，所述旋轉(zhuǎn)電機定子相對于所述旋轉(zhuǎn)底座固定，所述旋轉(zhuǎn)電機動子相對于所述載臺固定；

垂向驅(qū)動裝置，所述垂向驅(qū)動裝置位于所述下部凹腔內(nèi)并構(gòu)造成能夠驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)底座垂直移動；

浮動重力補償裝置，所述浮動重力補償裝置位于所述下部凹腔內(nèi)并構(gòu)造成能夠?qū)λ鲂D(zhuǎn)底座進行重力補償；以及

微動底座，所述旋轉(zhuǎn)底座通過交叉滾子導(dǎo)軌相對于所述微動底座垂向可滑動地連接至所述微動底座。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微動臺，其特征在于，所述微動底座具有面向上的凹腔，所述旋轉(zhuǎn)底座位于所述凹腔內(nèi)并通過所述交叉滾子導(dǎo)軌垂向可滑動地連接至所述凹腔的內(nèi)周。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微動臺，其特征在于，所述垂向驅(qū)動裝置和所述浮動重力補償裝置彼此集成并位于所述下部凹腔內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微動臺，其特征在于，所述下部凹腔包括多個下部凹腔，所述垂向驅(qū)動裝置和所述浮動重力補償裝置分別位于不同的下部凹腔內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的微動臺，其特征在于，所述浮動重力補償裝置為磁浮重力補償裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微動臺，其特征在于，所述環(huán)形上部凹腔內(nèi)設(shè)有垂向位置測量裝置，所述垂向位置測量裝置固定至所述旋轉(zhuǎn)底座。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微動臺，其特征在于，所述微動臺的外周設(shè)有垂向位置測量裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微動臺，其特征在于，所述多個下部凹腔包括中心凹腔和周部凹腔，所述中心凹腔的平面位置由所述環(huán)形上部凹腔所圍繞，并用于容納所述垂向驅(qū)動裝置；所述周部凹腔位于所述環(huán)形上部凹腔的外周，并用于容納所述浮動重力補償裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微動臺，其特征在于，所述下部凹腔包括三個或四個周部凹腔，每個所述周部凹腔容納一個浮動重力補償裝置。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微動臺，其特征在于，所述垂向驅(qū)動裝置和所述浮動重力補償裝置彼此集成的結(jié)構(gòu)包括：

音圈電機定子，所述音圈電機定子外表面套設(shè)有內(nèi)磁環(huán)；以及

音圈電機動子，所述音圈電機動子外表面套設(shè)有外磁環(huán)。

11.一種運動裝置，其特征在于，所述運動裝置包括：

根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項所述的微動臺；

Y向運動板，所述微動臺設(shè)置在所述Y向運動板上；

X向運動板，所述Y向運動板沿Y向可滑動地設(shè)置在所述X向運動板上；

X底座，所述X向運動板沿X向可滑動地設(shè)置在所述X底座上。