[實(shí)用新型]光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020822827.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212459405U | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郝祖德;傅荔暄;鄭瑩欽;賴杰宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 五鈴光學(xué)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/41 | 分類號(hào): | G01N21/41;G01N21/55;G01N21/59;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京偉思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聶寧樂(lè);趙麗麗 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹縣*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 系統(tǒng) | ||
一種光學(xué)量測(cè)系統(tǒng),包括一下座、一光學(xué)量測(cè)裝置、一上座與一光源產(chǎn)生裝置,下座供放置一待測(cè)樣品,所述下座頂部具有一透光孔可使光線進(jìn)入;所述光學(xué)量測(cè)裝置設(shè)置于所述下座內(nèi)部且與所述透光孔相通,用以測(cè)量所述待測(cè)樣品的光學(xué)參數(shù);所述上座設(shè)置于所述下座上;所述光源產(chǎn)生裝置設(shè)置于所述上座,所述光源產(chǎn)生裝置具有一出光口,所述出光口對(duì)應(yīng)所述透光孔,且所述光源產(chǎn)生裝置受操控而可沿一弧線方向移動(dòng),使所述出光口的一出光軸線改變?nèi)肷渲了鐾腹饪椎囊蝗肷浣牵璐丝蓽y(cè)量待測(cè)樣品在不同入射角的光學(xué)參數(shù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型與光源量測(cè)系統(tǒng)有關(guān);特別是指一種光源可沿弧線方向移動(dòng)的量測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
光學(xué)量測(cè)技術(shù)在光學(xué)產(chǎn)業(yè)上已是極普遍的需求,例如鏡片、透鏡、鍍膜元件等光學(xué)產(chǎn)品皆需要經(jīng)過(guò)光學(xué)量測(cè)裝置的檢驗(yàn),以確認(rèn)當(dāng)光線照射至這些光學(xué)產(chǎn)品上時(shí)的光學(xué)特性之變化,進(jìn)而測(cè)量其光學(xué)產(chǎn)品的光學(xué)參數(shù),例如穿透率、反射率、透光率及光譜數(shù)據(jù)等。
已知既有的光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)大多具有一光源、一光學(xué)參數(shù)量測(cè)裝置與一待測(cè)樣品放置平臺(tái)。光源用以產(chǎn)生光線往所述光學(xué)參數(shù)量測(cè)裝置入射,待測(cè)樣品放置平臺(tái)供放置待測(cè)樣品且位于所述光源與所述光學(xué)參數(shù)量測(cè)裝置之間,由所述光學(xué)參數(shù)量測(cè)裝置測(cè)量待測(cè)樣品的光學(xué)參數(shù)。
已知的光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)中,光源是以固定的入射角入射至所述光學(xué)參數(shù)量測(cè)裝置,因此,面臨需以不同入射角測(cè)量光學(xué)參數(shù)之需求時(shí),例如測(cè)量待測(cè)樣品的藍(lán)移(blueshift)特性,必須多次調(diào)整待測(cè)樣品相對(duì)于光源的角度,如此一來(lái),不僅操作步驟繁瑣,并且,每次調(diào)整待測(cè)樣品的角度時(shí),亦可能會(huì)產(chǎn)生角度的誤差,使得則測(cè)量過(guò)程將會(huì)極為困難,在量測(cè)速度與效率上會(huì)產(chǎn)生延宕。
因上述缺陷之影響,光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)于光源可動(dòng)性與測(cè)量泛用性等面向仍有改進(jìn)之必要。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型之目的在于提供一種光源可移動(dòng)的光學(xué)量測(cè)系統(tǒng),能夠調(diào)整光線射入待測(cè)樣品的入射角。
緣以達(dá)成上述目的,本實(shí)用新型提供一種光學(xué)量測(cè)系統(tǒng),包括一下座、一光學(xué)量測(cè)裝置、一上座與一光源產(chǎn)生裝置,其中,所述下座供放置一待測(cè)樣品,且頂部具有一透光孔;所述光學(xué)量測(cè)裝置設(shè)置于所述下座內(nèi)部,且與所述透光孔相通,所述光學(xué)量測(cè)裝置用以測(cè)量所述待測(cè)樣品的光學(xué)參數(shù);所述上座設(shè)置于所述下座上;所述光源產(chǎn)生裝置設(shè)置于所述上座內(nèi),所述光源產(chǎn)生裝置具有一出光口,所述出光口對(duì)應(yīng)所述透光孔,且所述光源產(chǎn)生裝置受操控而可沿一弧線方向移動(dòng),使所述出光口的一出光軸線改變?nèi)肷渲盟鐾腹饪椎囊蝗肷浣恰?/p>
本實(shí)用新型之效果在于通過(guò)改善光源產(chǎn)生裝置的設(shè)計(jì)使光源具有可動(dòng)性,如此光源產(chǎn)生裝置可沿一弧線方向移動(dòng),藉以改變?nèi)肷浣牵璐颂岣吡藴y(cè)量上的便捷度。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例之光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)的立體圖。
圖2為上述優(yōu)選實(shí)施例之光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)另一方向立體圖。
圖3為上述光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)的前視圖。
圖4為上述光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)之局部分解圖。
圖5為上述光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)之光源產(chǎn)生裝置之立體圖。
圖6為上述光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)之光源產(chǎn)生裝置之分解圖。
圖7為上述光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)之右側(cè)視圖。
圖8為圖7之8-8方向剖視圖。
圖9為圖7之9-9方向剖視圖。
圖10為圖7之10-10方向剖視圖。
圖11為待測(cè)樣品之?dāng)[放示意圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明
[本實(shí)用新型]
10:下座
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





