[實用新型]一種低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 202020820148.0
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN212152091U
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 李建根;鄧軍;徐伯永
• 申請（專利權）人: 四川南玻節能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 四川力久律師事務所 51221
• 代理人: 曹晉玲

1.一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，該鍍膜玻璃結構包括依次排列的玻璃基片(100)、第一層打底介質層氮化硅層(1)、第二層種子層氧化鋅層(2)、第三層功能層銀層(3)、第四層輔助功能層銅層(4)、第五層保護層鎳鉻合金層(5)、第六層介質層氮化硅層(6)、第七層中間吸收層鎳鉻層(7)、第八層介質層氧化鋅錫層(8)、第九層種子層氧化鋅層(9)、第十層功能層銀層(10)、第十一層保護層鎳鉻合金層(11)、第十二層頂層介質保護層氮化硅層(12)；所述第四層輔助功能層銅層(4)的厚度為3-10nm，所述第七層中間吸收層鎳鉻層(7)的厚度為0.5-5nm。

2.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片(100)為浮法白玻或超白玻璃。

3.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一層打底介質層氮化硅層(1)的厚度為5-40nm，所述第六層介質層氮化硅層(6)的厚度為10-50nm，所述第十二層頂層介質保護層氮化硅層(12)的厚度為10-50nm。

4.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二層種子層氧化鋅層(2)的厚度為5-15nm。

5.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第九層種子層氧化鋅層(9)的厚度為5-15nm。

6.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三層功能層銀層(3)的厚度為3-15nm。

7.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第十層功能層銀層(10)的厚度為5-20nm。

8.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第五層保護層鎳鉻合金層(5)的厚度為1-10nm；所述第十一層保護層鎳鉻合金層(11)的厚度為0.5-10nm。

9.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第八層介質層氧化鋅錫層(8)的厚度為10-50nm。

10.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片(100)為浮法白玻基片，并在所述浮法白玻基片表面依次鍍有：厚度為20nm第一層打底介質層氮化硅層(1)、厚度為10nm第二層種子層氧化鋅層(2)、厚度為9nm第三層功能層銀層(3)、厚度為6nm第四層輔助功能層銅層(4)、厚度為5nm第五層保護層鎳鉻合金層(5)、厚度為22nm第六層介質層氮化硅層(6)、厚度為2.5nm第七層中間吸收層鎳鉻層(7)、厚度為22nm第八層介質層氧化鋅錫層(8)、厚度為10nm第九層種子層氧化鋅層(9)、厚度為12nm第十層功能層銀層(10)、厚度為5nm第十一層保護層鎳鉻合金層(11)、厚度為25nm第十二層頂層介質保護層氮化硅層(12)。